| 使用金属蒸汽真空弧离子源的金属离子注入 |
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| 引用本文： | 姬成周,张通和.使用金属蒸汽真空弧离子源的金属离子注入[J].北京师范大学学报(自然科学版),1991,27(2):163-168. |
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| 作者姓名： | 姬成周 张通和 |
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| 作者单位： | 北京师范大学低能核物理研究所，北京师范大学低能核物理研究所，北京师范大学低能核物理研究所，北京师范大学低能核物理研究所 |
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| 摘 要： | 用金属蒸汽真空弧离子(MEVVA)源注入金属离子,能以较低的离子能量而获得较厚的注层.掺杂浓度高,容易诱生金属间化物沉淀,是一种有工业应用价值的强流离子源.讨论了注入原子的状态和分布特征,说明了 MEVVA 源可能的使用前景.
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| 关 键 词： | MEVVA 离子注入 金属改性 离子源 |
METALLIC ION IMPLANTATION USING A MEWA SOURCE |
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| Ji Chengzhou Zhang Tonghe Shen Jinghua Yang Jianhua.METALLIC ION IMPLANTATION USING A MEWA SOURCE[J].Journal of Beijing Normal University(Natural Science),1991,27(2):163-168. |
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| Authors: | Ji Chengzhou Zhang Tonghe Shen Jinghua Yang Jianhua |
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| Abstract: | Because ot high flux,ion implantation using a MEWA source can modify a thicker surface layer with metallic ions of rather low energies.Beam heating helps to retain a higher concentration ot implants and to induce intermetallic compounds as fine precipitates.These make MEWA a valuable high current ion source in industrial applications.The behaviour and state of the implanted atoms are characterized and the potential pros- pects of MEVVA are predicted. |
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| Keywords: | beam heating concentration profile precipitate intermetallic compounds |
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