| Si(100)衬底上取向生长La0.8Sr0.2MnO3(110)薄膜 |
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| 引用本文： | 梁宝龙,张丽,赵昆.Si(100)衬底上取向生长La0.8Sr0.2MnO3(110)薄膜[J].聊城大学学报(自然科学版),2005,18(2):29-30. |
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| 作者姓名： | 梁宝龙 张丽 赵昆 |
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| 作者单位： | 聊城大学,物理科学与信息工程学院,山东,聊城,252059;聊城大学,山东,聊城,252059 |
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| 基金项目： | 山东省教育厅科技攻关计划(03A05);国家自然科学基金(50371102)资助课题 |
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| 摘 要： | 利用对向靶磁控溅射方法在Φ60 mm Si(100)衬底上得到了择优取向生长的La0.8Sr0.2MnO3(110)薄膜.当沉积温度为500℃时,在40 nm缓冲层SrMnO3上,La0.8Sr0.2MnO3薄膜沿(110)取向生长.提高沉积温度到750℃时,厚度为12 nm的SrMnO3缓冲层就可以实现La0.8Sr0.2MnO3薄膜的(110)取向择优生长.
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| 关 键 词： | 薄膜 缓冲层 取向生长 |
| 文章编号： | 1672-6634(2005)02-0029-02 |
| 修稿时间： | 2005年1月25日 |
La0.8Sr0.2MnO3(110) Thin Films Grown on Si (100) Substrate |
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| LIANG Bao-long,ZHANG Li,ZHAO Kun.La0.8Sr0.2MnO3(110) Thin Films Grown on Si (100) Substrate[J].Journal of Liaocheng University:Natural Science Edition,2005,18(2):29-30. |
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| Authors: | LIANG Bao-long ZHANG Li ZHAO Kun |
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| Institution: | LIANG Bao-long 1) ZHANG Li 2) ZHAO Kun 1) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | thin film buffer layers preferential orientation |
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