| 微波ECR等离子体高速溅射装置的研制 |
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| 引用本文： | 汪建华,袁润章,邬钦崇,任兆杏.微波ECR等离子体高速溅射装置的研制[J].华中科技大学学报(自然科学版),1999,27(2):2. |
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| 作者姓名： | 汪建华 袁润章 邬钦崇 任兆杏 |
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| 作者单位： | 武汉工业大学材料复合新技术国家重点实验室，中科院等离子体物理研究所 |
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| 摘 要： | 研制了一台高速率溅射的ＥＣＲ等离子体沉积装置．采用微波真空波导及反常模式或输入技术，利用腔内双靶构成的电场镜，使高能γ电子在电场镜中振荡，从而获得高密度的等离子体．并且，导电膜能连续高速沉积，在２．７×１０－２Ｐａ的低气压下，铜膜的沉积速率可达１２０ｎｍ／ｍｉｎ．
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| 关 键 词： | ECR等离子体 高速溅率 电场镜 |
| 修稿时间： | 1998-10-11. |
A Study of the High Rate Sputtering Type ECR Microwave Plasma Apparatus |
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| Wang Jianhua,Yuan Runzhang,Wu Qinchong,Ren Zhaoxing.A Study of the High Rate Sputtering Type ECR Microwave Plasma Apparatus[J].JOURNAL OF HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY.NATURE SCIENCE,1999,27(2):2. |
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| Authors: | Wang Jianhua Yuan Runzhang Wu Qinchong Ren Zhaoxing |
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| Institution: | Wang Jianhua Yuan Runzhang Wu Qinchong Ren Zhaoxing |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ECR plasma high rate sputtering electric mirror |
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