| 电子束蒸发镀膜反应室内的等离子体空间分布 |
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| 引用本文： | 蒙高庆,陈俊芳,向鹏飞,熊予莹,吴先球,符斯列,张茂平. 电子束蒸发镀膜反应室内的等离子体空间分布[J]. 华南师范大学学报(自然科学版), 2005, 0(2): 61-66 |
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| 作者姓名： | 蒙高庆 陈俊芳 向鹏飞 熊予莹 吴先球 符斯列 张茂平 |
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| 作者单位： | 华南师范大学物理与电信工程学院,广东广州,510631;华南师范大学物理与电信工程学院,广东广州,510631;华南师范大学物理与电信工程学院,广东广州,510631;华南师范大学物理与电信工程学院,广东广州,510631;华南师范大学物理与电信工程学院,广东广州,510631;华南师范大学物理与电信工程学院,广东广州,510631;华南师范大学物理与电信工程学院,广东广州,510631 |
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| 基金项目： | 高等学校博士学科点专项科研基金资助项目([2004]165)，广东省自然科学基金资助项目(000675) |
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| 摘 要： | 利用Langmuir探针诊断方法，得到了放电气压0.1Pa、射频13．56MHz、功率200W、加速栅压-200V和减速栅压 85V条件下，电子束蒸发镀膜反应室内的等离子体空间密度分布，以及不同放电气压和不同偏压下反应室内的等离子体密度分布．通过对反应室中等离子体空间分布的分析，得到离子密度均匀区域、合适的反应气压和合适的加速栅电压、减速栅电压范围．
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| 关 键 词： | TCP Langmuir探针 电子束蒸发镀膜 |
| 文章编号： | 1000-5463(2005)02-0061-06 |
| 修稿时间： | 2005-01-05 |
THE SPATIAL DISTRIBUTION OF PLASMA IN THE REACTOR OF AN ELECTRIC BEAM EVAPORATION DEPOSITION DEVICE |
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| MENG Gao-qing,CHEN Jun-fang,XIANG Peng-fei,XIONG Yu-ying,WU Xiang-qiu,FU Si-lie,ZHANG Mao-ping. THE SPATIAL DISTRIBUTION OF PLASMA IN THE REACTOR OF AN ELECTRIC BEAM EVAPORATION DEPOSITION DEVICE[J]. Journal of South China Normal University(Natural Science Edition), 2005, 0(2): 61-66 |
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| Authors: | MENG Gao-qing CHEN Jun-fang XIANG Peng-fei XIONG Yu-ying WU Xiang-qiu FU Si-lie ZHANG Mao-ping |
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| Abstract: | The spatial distribution of plasma in the reactor of an electric beam evaporation deposition device had been measured by a Langmuir probe.The device was operated under the power of 200W, the discharge pressure of 0.1Pa,the excitation frequency of 13.56MHz,the positive grid voltage of 85V and the negative grid voltage of -200V. The density of plasma varied with diverse discharge pressure and diverse biased voltage on the grids in the reactor had also been investigated.After the analysis of these distributions, the uniform plasma region,and the suitable discharge pressure and the appropriate voltage on the grids were obtained. |
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| Keywords: | TCP Langmuir probe electric beam evaporation deposition |
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