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| 硅材料科学与工程的现状及我国的对策 | |
| 引用本文： | 李玉增.硅材料科学与工程的现状及我国的对策[J].科技导报(北京),1993(11):16-19,15. |
| 作者姓名： | 李玉增 |
| 作者单位： | 北京有色金属研究总院 高级工程师 |
| 摘 要： | 一、硅材料的发展趋势为满足微电子和电力电子器件制造的需要,现代半导体硅材料产品已进入以优质大直径高精度加工硅片为主体的新阶段,这种高精密度、高洁净度和无尘防静电包装的抛光硅片,已达到可以直接进入集成电路生产线的水平。发展趋势主要有三个方面: 其一是研制和生产大直径直拉硅单晶(CZ—Si)的切磨抛光片,用作微电子集成电路或分立器件生产的芯片材料。目前日本、美国和德国等都在生产直径150～200毫米的精细抛光硅片,实验室中已能控制直径300～400毫米的CZ硅单晶。我国国家半导体材料工程研究中心也已拉制出直径150毫米的CZ硅单晶,已能生产75～100毫米的CZ硅 |
| 关 键 词： | 硅 材料科学 硅单晶 多晶硅 |
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