| 光亮Fe-Ni合金电沉积工艺的研究 |
| |
| 引用本文： | 何湘柱,龚竹青,蒋汉瀛. 光亮Fe-Ni合金电沉积工艺的研究[J]. 湖南科技大学学报(自然科学版), 1998, 0(3) |
| |
| 作者姓名： | 何湘柱 龚竹青 蒋汉瀛 |
| |
| 作者单位： | 中南工业大学冶金物理化学和化学新材料研究所 |
| |
| 摘 要： | 介绍了一种新的电沉积光亮Ｆｅ－Ｎｉ合金的方法用这种方法在室温下电沉积出外观接近镜面的Ｆｅ－Ｎｉ合金镀层，其厚度可达３７μｍ经Ｘ－ｒａｙ衍射及等离子光谱分析证实，所获得的合金镀层为γ（Ｆｅ－Ｎｉ）合金相，镀层中含Ｆｅ和Ｎｉ的量分别为２３．５％～４５．７％和７６．２％～５３．８％，同时含有少量的Ｐ和Ｂ元素文中对电沉积的工艺条件、光亮剂ＨＢ、添加剂ＨＴ的作用和影响进行了分析和探讨图６，表２，参９
|
| 关 键 词： | 光亮Fe－Ni合金 电沉积 添加剂 |
A STUDY OF ELECTRODEPOSITION OF BRIGHT AND SHINY Fe-Ni ALLOY |
| |
| He Xiangzhu Gong Zhuqing Jiang Hanying. A STUDY OF ELECTRODEPOSITION OF BRIGHT AND SHINY Fe-Ni ALLOY[J]. Journal of Hunan University of Science & Technology(Natural Science Editon), 1998, 0(3) |
| |
| Authors: | He Xiangzhu Gong Zhuqing Jiang Hanying |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | bright and shiny Fe-Ni alloy electrodeposition additives |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ |
