| 电子衍射用铜膜氧化现象的观察和分析 |
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| 引用本文： | 孙大明，闻杰，汪白扬.电子衍射用铜膜氧化现象的观察和分析[J].安徽大学学报(自然科学版),1989(2). |
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| 作者姓名： | 孙大明，闻杰，汪白扬 |
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| 作者单位： | 安徽大学物理系，安徽大学物理系，安徽大学物理系 87届毕业生，87届毕业生 |
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| 摘 要： | 本文对电子衍射用铜膜的氧化现象进行了系统的观察和分析。指出真空击穿放电、氧分子吸着、电子束照射等,是其氧化的主要原因,氧化主要产物是Cu_2O。
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| 关 键 词： | 电子衍射 氧化 铜膜 |
Observation and Analysis of Oxidation of Cu-film for Electron Diffraction |
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| Sun Daming Wen Jie Wang Baiyang.Observation and Analysis of Oxidation of Cu-film for Electron Diffraction[J].Journal of Anhui University(Natural Sciences),1989(2). |
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| Authors: | Sun Daming Wen Jie Wang Baiyang |
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| Institution: | Sun Daming Wen Jie Wang Baiyang |
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| Abstract: | In this paper, the oxidation phenomenon of Cu-film used for electro diffraction is presented. The reasons for the oxidizing are dischargen caused by vacuum breakdown, oxygen absorption and electron irradiation, The oxide is Cu_2O. |
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| Keywords: | Electron diffraction oxidation Cu-film |
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