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| 微颗粒体中二次荧光发射强度计算公式 | |
| 引用本文： | 何延才,曹立群,陈家光.微颗粒体中二次荧光发射强度计算公式[J].自然杂志,1984(10). |
| 作者姓名： | 何延才 曹立群 陈家光 |
| 作者单位： | 中国科学院上海硅酸盐研究所 (何延才)，上海市物资局计算站 (曹立群)，上海宝山钢铁总厂研究室(陈家光) |
| 摘 要： | 二次荧光校正计算是微颗粒X射线定量分析中极为困难的问题。本文基于一定物理模型,提出了任意形状、尺寸的多元系颗粒样品二次荧光发射强度计算方法,导出了轴对称旋转体颗粒荧光校正计算公式。若一定能量的电子束垂直入射到多元颗粒表面上,令S_1表示颗粒中元素j所产生的初次特征X射线光子(称X_j光子)的空间分辨率, |
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