首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

GSH参与低温胁迫下外源NO对黄瓜叶绿体活性氧清除系统的影响
摘    要:为探讨还原型谷胱甘肽(GSH)参与低温(10℃/6℃)胁迫下一氧化氮(NO)对黄瓜叶绿体抗氧化酶活性、还原力水平及氧化还原状态的影响,本研究以基质培'津研四号'黄瓜幼苗为试材,四叶一心时置光周期14 h/10 h、昼夜温度25℃/20℃光照培养箱内,叶面预处理GSH合成酶抑制剂(BSO,丁硫氨酸亚砜胺)、NADPH合成酶抑制剂(6-AN,6-氨基烟酰胺),8 h后再喷施一氧化氮NO供体(SNP,亚硝基铁氰化钠),第1次喷施药剂后24 h后昼夜温度降至10℃/6℃,低温胁迫24 h后测定各项指标。结果表明:低温胁迫24 h后,与CK相比,水+SNP处理显著提高了黄瓜叶绿体谷胱甘肽还原酶(GR)、过氧化物酶(POD)、抗坏血酸过氧化物酶(APX)、过氧化氢酶(CAT)、脱氢抗坏血酸还原酶(DHAR)、单脱氢抗坏酸还原酶(MDHAR)活性,保持较高的还原型谷胱甘肽/氧化型谷胱甘肽(GSH/GSSG)、还原型抗坏血酸/氧化型抗坏血酸(As A/DHA)、还原型辅酶Ⅱ/氧化型辅酶Ⅱ(NADPH/NADP+)状态,显著降低叶片丙二醛(MDA)含量、叶绿体过氧化氢(H2O2)和超氧阴离子自由基(O2·-)含量;而BSO+SNP、6AN+SNP处理显著降低了SNP的作用效果。本研究结果说明GSH参与了外源NO提高黄瓜叶绿体抗氧化能力的调控。

本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号