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| 碳氮膜性能研究 | |
| 引用本文： | 陈彤,蔡长龙.碳氮膜性能研究[J].科技信息,2006(9):8-9. |
| 作者姓名： | 陈彤 蔡长龙 |
| 作者单位： | 陈彤（西安工业大学光电工程学院,陕西,西安,710032） 蔡长龙（西安工业大学光电工程学院,陕西,西安,710032） |
| 摘 要： | 采用电子回旋共振化学气相沉积(ECR-CVD))方法在基片Si(100)上镀制了厚度为80m的氮碳膜(CNx膜),并研究了CNx膜的机械特性、摩擦特性和薄膜结构.采用轮廓仪测量了薄膜的厚度,采用纳米压入仪研究了薄膜的纳米硬度和弹性模量,采用摩擦磨损仪研究了薄膜的摩擦特性,采用X射线光电子能谱仪研究了薄膜的键组成,采用X射线衍射仪研究了薄膜的结晶情况,采用傅立叶红外光谱仪研究了薄膜的吸收特性,以及采用电子探针分析仪研究了薄膜的元素组成.并对所得到的数据进行了分析.研究结果表明,采用该方法镀制的CNx膜具有较好的性能. |
| 关 键 词： | ECR-CVD CNx膜 薄膜特性 薄膜结构 |
Study on Properties of CNx Films |
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