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物理气相沉积技术在模具中的应用及发展
引用本文:许锋,龚冬梅.物理气相沉积技术在模具中的应用及发展[J].皖西学院学报,2005,21(2):45-46.
作者姓名:许锋  龚冬梅
作者单位:皖西学院,机械与电子工程系,安徽,六安,237010
摘    要:物理气相沉积(PVD)在表面处理技术中占有举足轻重的地位。本文通过对三类物理气相沉积技术原理的阐述.说明其应用现况及发展前景。

关 键 词:物理气相沉积  真空蒸镀  阴极溅射  离子镀
文章编号:1009-9735(2005)02-0045-02
修稿时间:2005年3月10日

The Application and Development of Physical Vapor Deposition on Molds
Xu Feng,Gong Dongmei.The Application and Development of Physical Vapor Deposition on Molds[J].Journal of Wanxi University,2005,21(2):45-46.
Authors:Xu Feng  Gong Dongmei
Abstract:The physical vapor deposition always plays an important role in the surface treatment technology.The article illuminates its application and development by describing the theory of three kinds of physical vapor depositions.
Keywords:physical vapor deposition  vacuum evaporation  cathode spatter  ion plating  
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