基于TiN涂层/玻璃基体的热压印模板的制备与性能 |
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引用本文: | 周志涛,王海容,蒋庄德,刘冲.基于TiN涂层/玻璃基体的热压印模板的制备与性能[J].科技通讯(上海),2008,14(1):79-83. |
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作者姓名: | 周志涛 王海容 蒋庄德 刘冲 |
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作者单位: | [1]西安交通大学精密工程研究所,西安710049 [2]大连理工大学,大连160422 [3]精密测试技术及仪器国家重点实验室(天津大学、清华大学),大连160422 |
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摘 要: | 对于热压印光刻而言,制备具有精确几何结构、良好耐磨损性能以及长使用寿命模板至关重要。在分析现有Si或SiO2模板使用性能基础上,提出了在TiN涂层/玻璃基体上制备热压印模板。首先采用直流磁过滤电弧在玻璃上沉积TiN薄膜,然后,通过聚焦离子束在薄膜上加工出最小线宽71nm的栅型结构,最后,使用所加工的模板,进行热压印实验,获得了良好的压印结果。实验结果表明,TiN作为模板材料可以获得高保真度的纳米图案,并且由于TiN比Si或SiO2具有更高硬度和强度,玻璃基体也具有很好的机械性能,由TiN/玻璃系统制备的压印模板的机械性能和使用寿命较之Si或SiO2基模板得到很大提高。
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关 键 词: | 纳米压印光刻 热压印 压印模板 聚焦离子束 硬质涂层 |
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