| 杂质对三价铬电沉积行为的影响 |
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| 引用本文： | 吴慧敏,艾佑宏.杂质对三价铬电沉积行为的影响[J].湖北大学学报(自然科学版),2007,29(1):57-59. |
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| 作者姓名： | 吴慧敏 艾佑宏 |
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| 作者单位： | 湖北大学,化学与化工学院,武汉,430062;湖北大学,化学与化工学院,武汉,430062 |
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| 摘 要： | 针对三价铬镀铬的镀液不稳定的问题,主要讨论Cu2 、Ni2 等金属离子对镀液的影响,并提出了相应的处理措施.
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| 关 键 词： | 三价铬 电沉积 杂质 |
| 文章编号： | 1000-2375(2007)01-0057-03 |
| 收稿时间： | 05 8 2006 12:00AM |
| 修稿时间： | 2006年5月8日 |
Effect of the impurity on the behavior of the trivalent chromium electrodeposition |
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| WU Hui-min,AI You-hong.Effect of the impurity on the behavior of the trivalent chromium electrodeposition[J].Journal of Hubei University(Natural Science Edition),2007,29(1):57-59. |
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| Authors: | WU Hui-min AI You-hong |
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| Institution: | School of Chemistry and Chemical Industry, Hubei University,Wuhan 430062,China |
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| Abstract: | The chromium-plating with Cr3 is the necessary trend of the history.But the solution is not stabile.So in this paper,the effects of impurity and the ways to remove are discussed. |
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| Keywords: | Trivalent chromium electrodeposition impurity |
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