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基于工控机和PLC的真空磁控溅射镀膜设备控制系统设计
引用本文:杨晓东,柳森娟,刘锋敏.基于工控机和PLC的真空磁控溅射镀膜设备控制系统设计[J].科技情报开发与经济,2009,19(31):117-120.
作者姓名:杨晓东  柳森娟  刘锋敏
作者单位:中国电子科技集团公司第二研究所,山西太原,030024
基金项目:基金项目:电子预研项目(项目 
摘    要:磁控溅射镀膜技术在薄膜制备领域广泛应用,控制系统的设计对磁控溅射镀膜设备的稳定运行有着重要的影响。介绍了基于嵌入式一体化工控机和PLC的真空磁控溅射镀膜设备电气自动控制系统的硬件构成、系统原理、系统功能,论述了其设计思路及方法,并重点叙述了OMRON CJ系列PLC在控制系统中的应用。

关 键 词:磁控溅射镀膜技术  可编程控制器  工控机

Design of the Control System of Vacuum Magnetron Sputtering & Coating Equipment Based on Industrial Computer and PLC
YANG Xiao-dong,LIU Sen-juan,LIU Feng-min.Design of the Control System of Vacuum Magnetron Sputtering & Coating Equipment Based on Industrial Computer and PLC[J].Sci-Tech Information Development & Economy,2009,19(31):117-120.
Authors:YANG Xiao-dong  LIU Sen-juan  LIU Feng-min
Abstract:
Keywords:
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