|
|||||
|
|
| Cu掺杂石榴石薄膜中矫顽力提高的机理分析 | |
| 引用本文： | 周勇.Cu掺杂石榴石薄膜中矫顽力提高的机理分析[J].科学通报,1994,39(7):597-597. |
| 作者姓名： | 周勇 |
| 作者单位： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 上海201800 (周勇，干福熹)，中国科学院上海冶金研究所 上海200050(沈德芳) |
| 摘 要： | Bi置换石榴石磁光薄膜具有好的结构稳定性和化学稳定性及在短波长具有大的法拉第旋转角,因而成为下一代有希望的磁光记录材料之一.制备石榴石薄膜可采用溅射法,也可采用热分解法.热分解法设备简单,对薄膜的成分易于控制和调节.要获得好的记录畴,要求薄膜在室温下有高的矫顽力.现已报道,添加元素W,Mo,Ba和Cu对提高H_c有效.到目前为止,H_c最高为432kA/m,其矫顽力的提高归因于钉扎效应. |
| 关 键 词： | 石榴石 矫顽力 抵消温度 铜 薄膜 |
| 收稿时间： | 1993-05-24 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
| 点击此处可从《科学通报》浏览原始摘要信息 | |
| 点击此处可从《科学通报》下载免费的PDF全文 | |