| SiC薄膜的制备及其光敏特性 |
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| 引用本文： | 赵武,邓周虎,闫军锋,张志勇. SiC薄膜的制备及其光敏特性[J]. 华中科技大学学报(自然科学版), 2007, 35(Z1) |
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| 作者姓名： | 赵武 邓周虎 闫军锋 张志勇 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院,西安光学精密机械研究所,陕西,西安,710068;中国科学院,研究生院,北京,100049;西北大学,信息科学与技术学院,陕西,西安,710069
2. 西北大学,信息科学与技术学院,陕西,西安,710069 |
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| 摘 要： | 采用热丝化学气相沉积(HFCVD)方法,以甲烷、硅烷和氢气为反应气体在单晶硅衬底上沉积碳化硅(SiC)薄膜材料.通过X射线衍射(XRD)、傅里叶变换红外光谱(FTIR)对SiC薄膜的晶体结构进行测试分析.利用原子力显微镜(AFM)对SiC薄膜的表面形貌进行分析.对该薄膜在室温和较高温度(410℃)下进行光敏特性测试,结果表明:该薄膜为SiC薄膜且对不同波长、不同功率的光有一定的敏感特性,较高温度下其敏感特性和室温下测试的结果大体一致,在高温光敏器件领域具有很大的应用潜力.
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| 关 键 词： | 碳化硅薄膜 热丝化学气相沉积 光敏特性 |
Deposition of SiC thin film and its photosensitive characteristics |
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| Zhao Wu,Deng Zhouhu,Yan Junfeng,Zhang Zhiyong. Deposition of SiC thin film and its photosensitive characteristics[J]. JOURNAL OF HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY.NATURE SCIENCE, 2007, 35(Z1) |
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| Authors: | Zhao Wu Deng Zhouhu Yan Junfeng Zhang Zhiyong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | SiC thin film hot filament chemical vapor deposition(HFCVD) photosensitivity |
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