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| 脉冲激光沉积制备薄膜的研究动态 | |
| 引用本文： | 叶云霞,王大承,等.脉冲激光沉积制备薄膜的研究动态[J].江苏理工大学学报(自然科学版),2001,22(2):56-59. |
| 作者姓名： | 叶云霞 王大承 |
| 作者单位： | [1]江苏理工大学机械工程学院，江苏镇江212013 [2]江苏理工大学机械工程学院，江苏镇江21201 |
| 摘 要： | 综述了脉冲激光沉积制备薄膜的原理、特点，国内外对脉冲激光沉积的研究应用情况及目前的最新研究方向。着重分析了脉冲激光沉积过程中各主要沉积条件，如激光能量密度、靶－基体距、真空室气压及基体温度等对薄膜质量的影响。 |
| 关 键 词： | 脉冲激光沉积 薄膜 制备 沉积条件 |
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