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低压ZnO压敏陶瓷晶粒边界电子陷阱态的研究
引用本文:章天金,顾豪爽,王玮.低压ZnO压敏陶瓷晶粒边界电子陷阱态的研究[J].湖北大学学报(自然科学版),2002,24(2):136-140,144.
作者姓名:章天金  顾豪爽  王玮
作者单位:湖北大学物理学与电子技术学院,湖北武汉430062
基金项目:武汉市晨光科技计划项目
摘    要:应用HP4192A低频阻抗分析仪测量了低压ZnO压陶陶瓷的复电容曲线,研究了烧结温度对复电容曲线压低角的影响规律,探讨了晶粒边界耗习层中电子陷阱的种类和起因,并对电子陷阱的特征参数进行了表征。实验发现:在低压ZnO压敏陶瓷中存在两种非理想的Deblye驰豫现象,对于每一种驰豫,其复电容曲线存在压低现象,且其压低角随着烧结温度的升高而迅速减小,在低压ZnO压敏陶瓷的耗尽层区域内存在两种电子陷阱,它们分别位于导带底0.209eV和0.342eV处,其中0.209eV处的陷阱能级对尖于本征施主Znj^x的二次电离,而0.342eV处的陷阱能级对应于氧空位V0的一次电离。

关 键 词:低压  ZnO压敏陶瓷  晶粒边界  电子  陷阱态
文章编号:1000-2375(2002)02-0136-05

Investigation of trapping states in the grain boundary[1]of low breakdown voltage ZnO ceramics varistors
Zhang Tianjin,Gu Haoshuang,Wang Wei.Investigation of trapping states in the grain boundary[1]of low breakdown voltage ZnO ceramics varistors[J].Journal of Hubei University(Natural Science Edition),2002,24(2):136-140,144.
Authors:Zhang Tianjin  Gu Haoshuang  Wang Wei
Abstract:
Keywords:low voltage ZnO varistors  grain boundary  trapping states  the complex capacitance
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