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| PECVD α—SiNx：H的^1H NMR研究 | |
| 引用本文： | 翁丽敏,杨光.PECVD α—SiNx：H的^1H NMR研究[J].华东师范大学学报(自然科学版),1998(3):40-47. |
| 作者姓名： | 翁丽敏 杨光 |
| 作者单位： | [1]华东师范大学电子科学技术系 [2]华东师范大学分析测试中心 |
| 摘 要： | 用质子核磁共振（＾１Ｈ ＮＭＲ）方法对等离子体化学气相沉积非晶氢化氮化硅薄膜进行测量，分析膜中Ｈ的含量和分布与沉积温度、射频功率等工艺条件的关系，以及退火的影响。 |
| 关 键 词： | 氢原子 核磁共振 非晶氢化氮化硅 薄膜 PECVD |
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