| 聚焦离子束刻蚀多晶TiNi薄膜的表面形貌 |
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| 引用本文： | 谢东珠. 聚焦离子束刻蚀多晶TiNi薄膜的表面形貌[J]. 上海师范大学学报(自然科学版), 2005, 34(3): 42-45 |
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| 作者姓名： | 谢东珠 |
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| 作者单位： | 上海师范大学,数理信息学院,上海,200234 |
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| 摘 要： | 报道了TiNi薄膜的聚焦离子束刻蚀特征及刻蚀后的表面形貌．测量结果表明薄膜的表面粗糙度随刻蚀深度呈非线性变化，当刻蚀深度等于0．1μm时，表面粗糙度为最小（5．26nm，刻蚀前为14．88nm）；刻蚀深度小于0．1μm时，表面粗糙度随刻蚀深度的增大而减小；当刻蚀深度大于0．1μm时表面粗糙度随刻蚀深度增大而增大，其原因是刻蚀深度大于0．1μm后表面出现了清晰的周期性条纹结构．此外，表面粗糙度随聚焦离子束流的增大而减小，当离子束流为2．5nA时，表面粗糙度从刻蚀前的14．88nm减小到4．67nm．
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| 关 键 词： | 形状记忆合金 离子束刻蚀 表面形貌 |
| 文章编号： | 1000-5137（2005）03-0042-04 |
| 收稿时间： | 2005-02-17 |
| 修稿时间： | 2005-02-17 |
Surface characteristics of TiNi thin film etched by focused ion beam |
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| XIE Dong-zhu. Surface characteristics of TiNi thin film etched by focused ion beam[J]. Journal of Shanghai Normal University(Natural Sciences), 2005, 34(3): 42-45 |
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| Authors: | XIE Dong-zhu |
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| Keywords: | shape memory alloy focused ion beam surface morphology |
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