| Ni金属诱导多晶硅薄膜的低温制备与性能研究 |
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| 引用本文： | 刘传珍,杨伯梁,李牧菊,吴渊,张玉,廖燕平,王大海,黄锡珉,邱法斌. Ni金属诱导多晶硅薄膜的低温制备与性能研究[J]. 吉林大学学报(理学版), 2000, 0(3) |
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| 作者姓名： | 刘传珍 杨伯梁 李牧菊 吴渊 张玉 廖燕平 王大海 黄锡珉 邱法斌 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院长春物理研究所,长春,130021
2. 吉林大学电子工程系,长春,130023 |
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| 基金项目： | 吉林省“九五”重大项目! (批准号 :K Y95 1-Al-5 0 2 )，中国科学院“九五”科技公关项目 !(批准号 :970 10 3 -0 1)，中国科学院院长 |
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| 摘 要： | 利用 Ni金属诱导晶化 ( Metal Induced Crystallization,MIC)的方法制备 p- Si薄膜 .XRD,Raman光谱研究结果表明 ,a- Si/ Ni经 440℃ 2 h以上退火处理后 ,形成多晶相结构 .用 SEM,XPS等分析手段对薄膜的结构进行分析 ,并对金属 Ni诱导晶化的机理进行简要的探讨
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| 关 键 词： | Ni金属诱导晶化 多晶硅薄膜 低温制备 退火处理 |
The Preparation and Properties of Ni-MIC Poly-crystalline Si Films at Low Temperatures |
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| LIU Chuan-zhen,YANG Bai-liang,LI Mu-ju,WU Yuan,ZHANG Yu,LIAO Yang-ping,WANG Da-hai,HUANG Xi-min,QIU Fa-bin. The Preparation and Properties of Ni-MIC Poly-crystalline Si Films at Low Temperatures[J]. Journal of Jilin University: Sci Ed, 2000, 0(3) |
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| Authors: | LIU Chuan-zhen YANG Bai-liang LI Mu-ju WU Yuan ZHANG Yu LIAO Yang-ping WANG Da-hai HUANG Xi-min QIU Fa-bin |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | metal induced crystallization poly|crystalline Si films preparation at low temperatures annealing treatment |
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