| 气体循环条件下等离子体喷射CVD金刚石膜的生长稳定性和品质 |
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| 引用本文： | 牛得草,李成明,刘政,郭世斌,吕反修.气体循环条件下等离子体喷射CVD金刚石膜的生长稳定性和品质[J].北京科技大学学报,2007,29(11):1133-1137. |
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| 作者姓名： | 牛得草 李成明 刘政 郭世斌 吕反修 |
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| 作者单位： | 北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金
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高等学校博士学科点专项科研项目 |
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| 摘 要： | 在气体循环条件下采用H2、CH4和Ar的混合气体,利用100kW直流电弧等离子喷射CVD系统,在850和950℃下在Mo衬底上沉积了不同厚度的金刚石膜;并利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和Raman光谱对膜的形貌、品质、取向和残余应力进行了分析.结果表明:在850℃下,随着金刚石膜厚度的增加,膜的品质不断提高,残余应力逐渐减小,且残余应力为拉应力,膜的生长稳定性很好;在反应气体流速不变的条件下,相比950℃沉积的厚度为120μm的金刚石膜,在850℃下沉积的厚度为110μm的金刚石膜有更好的生长稳定性,膜的品质更高,残余应力更小.
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| 关 键 词： | CVD金刚石膜 气体循环 直流电弧等离子喷射 生长稳定性 残余应力 气体循环 条件 直流电弧等离子喷射 体喷 金刚石膜 生长稳定性 品质 condition gas recycling diamond films plasma jet quality stability 气体流速 反应 拉应力 膜厚度 结果 分析 残余应力 |
| 收稿时间： | 2006-07-25 |
| 修稿时间： | 2006-09-05 |
Growth stability and quality of plasma jet CVD diamond films under gas recycling condition |
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| NIU Decao,LI Chengming,LIU Zheng,GUO Shibin,LV Fanxiu.Growth stability and quality of plasma jet CVD diamond films under gas recycling condition[J].Journal of University of Science and Technology Beijing,2007,29(11):1133-1137. |
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| Authors: | NIU Decao LI Chengming LIU Zheng GUO Shibin LV Fanxiu |
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| Keywords: | CVD diamond film gas recycling DC arc plasma jet growth stability residual stress |
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