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Ti覆盖层厚度对Ti/Ni/Ti磁性薄膜的磁特性和微结构的影响
引用本文:胡彦英,郭小方,彭燕,张罕玮,孙会元.Ti覆盖层厚度对Ti/Ni/Ti磁性薄膜的磁特性和微结构的影响[J].河北师范大学学报(自然科学版),2008,32(3):334-336.
作者姓名:胡彦英  郭小方  彭燕  张罕玮  孙会元
作者单位:河北师范大学物理科学与信息工程学院,河北石家庄,050016
基金项目:国家自然科学基金 , 河北师范大学校科研和教改项目
摘    要:室温下利用磁控溅射法,在玻璃基片上沉积了Ti(3 nm)/Ni(30 nm)/Ti(t=3,5,7,10 nm)磁性薄膜.实验发现,500℃退火30min,覆盖层厚度t=7 nm时,样品的矫顽力达到最大.利用振动样品磁强计、扫描探针显微镜观测了样品的磁特性、表面形貌和磁畴,X射线衍射图谱表明,样品中的Ni颗粒形成了面心立方(FOC)结构.

关 键 词:磁记录  磁控溅射  矫顽力  退火
文章编号:1000-5854(2008)03-0334-03
修稿时间:2007年12月10

Effect of Ti Cover Layer on the Structure and Magnetism of Ti/Ni/Ti Thin Films
HU Yan-ying,GUO Xiao-fang,PENG Yan,ZHANG Han-wei,SUN Hui-yuan.Effect of Ti Cover Layer on the Structure and Magnetism of Ti/Ni/Ti Thin Films[J].Journal of Hebei Normal University,2008,32(3):334-336.
Authors:HU Yan-ying  GUO Xiao-fang  PENG Yan  ZHANG Han-wei  SUN Hui-yuan
Abstract:
Keywords:
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