| 用六价铬还原产物电镀铬 |
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| 引用本文： | 李惠东,段淑贞,张新.用六价铬还原产物电镀铬[J].北京科技大学学报,1993(6). |
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| 作者姓名： | 李惠东 段淑贞 张新 |
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| 作者单位： | 北京科技大学表面科学与腐蚀工程系
(李惠东)，北京科技大学理化系
(段淑贞)，北京科技大学理化系(张新) |
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| 摘 要： | 研究了不同还原剂与六价铬的还原反应和各种反应条件对还原率的影响。讨论了反应历程,确定了最佳反应条件。这种还原产物可以做为无毒性电镀铬的铬源。使用这种三价铬化合物进行了电镀试验,获得了厚度超过100μm的镀层。
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| 关 键 词： | 电镀铬 氧化还原反应 工艺/三价铬 |
Chromium Electroplating Using Reduced Product of Hexavalent Chromium |
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| Li Huidong Duan Shuzhen Zhang Xin.Chromium Electroplating Using Reduced Product of Hexavalent Chromium[J].Journal of University of Science and Technology Beijing,1993(6). |
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| Authors: | Li Huidong Duan Shuzhen Zhang Xin |
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| Institution: | Li Huidong Duan Shuzhen Zhang Xin Department of Surface Science and Corrosion Engineering Department of Physical Chemistry |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | chromium electroplating redox reactions technology / trivalent chromium |
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