脉冲激光沉积KTN薄膜动力学过程模拟 |
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引用本文: | 陈中军,张端明.脉冲激光沉积KTN薄膜动力学过程模拟[J].华中理工大学学报,2000,28(5):92-94. |
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作者姓名: | 陈中军 张端明 |
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摘 要: | 根据流体力学理论,对脉冲激光沉积KTN薄膜的动力学过程地模拟,讨论了激光沉积的KTN薄膜厚度分布随基片位置的变化规律,结果表明,等离子体在膨胀过程中会形成垂直靶表面的等离子体羽辉,当激光束的位置和方向不变时,KTN薄膜的厚度分布不均匀,呈现类高斯分布形状,薄膜的最大厚度与基片和靶材的距离成负二次方关系。
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关 键 词: | KTN薄膜 脉冲激光沉积 动力学过程 数值模拟 |
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