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1.
裴为华 《科技导报(北京)》2018,36(6):77-82
神经科学和神经工程研究需要研究大脑神经元的电活动情况,以了解大脑产生、传输和处理信息的机制。植入式神经微电极作为一种传感器件,是时间分辨率最高的神经电活动传感手段之一。介绍了国内外几种主要的植入式硅基神经微电极的结构特点、制备方法和性能特点。分析表明,未来通过不断结构优化和改性修饰,特别是在高通量的神经记录方面,通过与同样基于硅材料的电路的集成,硅神经微电极能够进一步提高生物相容性,解决大规模的电极通道体内外传输与连接问题,实现对神经元的在体大规模长时间记录。 相似文献
2.
Two decoration techniques, solidification-induced band texture decora tion and focal-conictexture decoration, have been established to exhibit the director field of disclinations in a low-molar-mass methacrylate liquid crystal. The disclinations with strength s = 1/2 and s = ±1 are observed by the two decor ation methods. For the solidification-induced band texture decoration, the molecular orientation is perpendicular to the direction of the band. While for focal- conictexture decoration, it has been proved by the results of IR dichroism that the direction of the director is parallel to the direction of the focal-conic. Therefore, the sketch map of the molecular director filed can be mapped according to the morphological pattern of the solidification-induced band textureor focal-conic texture. 相似文献
3.
研究了RE_Mg合金对固体粉末法硼、铬、铝共渗层成分、组织和性能的影响 .发现随着RE_Mg合金加入量的增加 ,渗层中Al2 O3的量不断增多 ,当RE_Mg合金加入量为 5 %时 ,渗层中出现连续致密分布的Al2 O3黑区组织 ,对此进行了性能测试和机理探讨 相似文献
4.
5.
在60Si2MnA钢等温淬火工艺和性能研究的基础上,用MEF-3型金相显微镜和JEM-200CX型透射电子显微镜对等温转变产物的组织形态进行了观察研究。并用Rigku D/maxⅢB型X-射线衍射仪测定了样品的残余奥氏体体积分数。实验结果表明,奥氏体-贝氏体复相组织强韧性好的原因在于含有一定数量的残余奥氏体和变态贝氏体组织,且贝氏作为无碳化物贝氏体。 相似文献
6.
7.
张建民 《陕西师范大学学报(自然科学版)》1992,(4)
离子束蚀刻是一种有超精细加工能力的微细加工技术,广泛应用于微电子、光子技术、表面科学等领域。硅及其化合物常用来制作大规模集成电路,在其表面蚀刻出具有一定几何布图尺寸的沟槽。其深度、宽度、边壁倾角及槽底形状等直接影响器件的性能。 相似文献
8.
史济群 《华中科技大学学报(自然科学版)》1994,(3)
报道一种新颖的激光开槽、埋槽电极硅太阳电池的结构、工艺流程及其研制结果。在AM1.5,25℃,100mW/cm2的条件下,以面积为45cm3的36片硅片研制的硅太阳电池的输出参数的平均值为JSC=36.1mA/cm2,V∞=633mV,F.F.=0.798,η=18.23%,最后分析了种高性能硅太阳电池的设计特点。 相似文献
9.
器件表面保护用有机硅漆导电机理的探讨 总被引:1,自引:0,他引:1
通过测量不同固化条件下高压硅器件用有机保护材料聚酯改性硅有机漆SP的电阻率随温度变化的规律,并借助于对经各种条件固化后SP的热重、差热分析、红外光谱分析,研讨了它的高温导电机理.实验结果表明,在一定的固化条件下,固化后的材料在高温时具有最高的电阻率,材料中离子输运最弱,并具有较佳微观结构,这时材料的固化温度是210℃.提出了SP的高温电导主要是含羟基的分子产生的本征离子电导的新观点,建立了SP的高温导电模型,并对电性能测量结果作出了新的解释. 相似文献
10.
多晶3C-SiC薄层的淀积生长及结构性能分析 总被引:1,自引:0,他引:1
采用HFCVD生长法,以较低生长温度,在Si(111)衬底上淀积3C-SiC(111)薄层。用XRD、VASE、XPS等分析手段研究了薄层的结构、光学常数、组分及化学键等性能。XRD显示薄层具有明显的择优取向特征。VASE测量出薄层的折射率为2.686,光学常数随深度的变化曲线反映出薄层的多层结构。XPS深度剖面曲线表明薄层中Si/C原子比符合SiC的理想化学计量比,其能谱证明C1s与Si2p成键形成具有闪锌矿结构的3C-SiC。 相似文献