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1.
介绍了直流电源、555时基电路、电磁继电器和光敏电阻,论述了自动启闭窗帘控制器的电路设计。  相似文献   
2.
采用射频溅射技术沉积Cu/Sn/Zn金属前驱体叠层结合硫化技术在玻璃衬底上成功制备了Cu2ZnSnS4薄膜。X-射线衍射分析表明,通过优化制备条件可以获得单一黝锡矿结构且具有(221)择优取向的Cu2ZnSnS4薄膜。霍尔效应和紫外可见透过谱测量表明,样品的薄膜电阻、吸收系数和光学带隙分别达到0.073Ω·cm,10^4cm^-1和1.53eV,具有适合作为薄膜太阳电池吸收层应用的可能性。  相似文献   
3.
InSb nanocrystals embedded in SiO2 thin films were prepared by rf magnetron cosputtering technique. THe observation by transmission electron microscope showed that InSb nanocrystals dispersed uniformly in SiO2 matrices. InSb nanocrystals with different sizes can be obtained by changing the annealing condition. The average size of InSb nanocrystals depended on annealing temperature and time, but not on the t1/3 rules. X-ray photoelectron spectroscopy and X-ray diffraction were also applied to the analyses of the composite thin films.  相似文献   
4.
气相生长碳纤维的制备   总被引:3,自引:0,他引:3  
以苯和氢气为原料在石墨,陶瓷等基板表面催化热解制取低成本,高性能的气相生长碳纤维(VGCF),实验考察了催化剂类热解温度、热解时间,苯带入量,载气,基板材料等参数对VGCF生长情况及性能的影响,并提出了碳纤维的生长机理。结果表明,在合适条件下,用直接播种法制得的VGCF直径为0.7 ̄10μm,长度为1 ̄5μm,采用金属原子溅射沉积的基板可得到均匀稠密的VGCF,直径为3 ̄80μm,碳纤维的生长过程  相似文献   
5.
无刷直流电机模糊控制系统的建模与仿真   总被引:13,自引:0,他引:13  
从无刷直流电机的基本原理出发,提出了无刷直流电机控制系统仿真建模的新方法.该方法在Mat-lab/Simulink中按功能进行模块化建模,用M文件来编写功能函数,实现了电流滞环和转速模糊控制的双闭环调速系统的仿真.利用该模型分析了电机的动静态性能,得到了电机运行时的反电动势、相电流、转矩和速度曲线,与一般比例积分与微分控制相比,系统响应时间缩短一半,且无超调,具有较强的鲁棒性和自适应能力.该模型准确易行,便于替换和修改,为今后分析该类电机和对其控制策略的研究提供了新的方法.  相似文献   
6.
用射频磁控溅射法分别在具有20nmFe衬底的Si(100)和NaCl单晶基片上成功地制备出具有高饱和磁化强度的Fe-N薄膜.用X射线衍射仪、透射电子显微镜和振动样品磁强计研究了氮气分压和基片温度对Fe-N薄膜相结构和磁性的影响.结果表明,当氮气分压为2.66×10-2Pa,基片温度为100~150℃时,最有利于α-″Fe16N2相的形成.在此条件下制备的Fe-N薄膜的饱和磁化强度高达2.735T,超过纯Fe的饱和磁化强度值.  相似文献   
7.
一阶拟线性椭圆型复方程的广义DC型边值问题   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究了一般的一阶拟线性椭圆型复方程的边界条件中含有斜微商的广义Carleman型边值问题。采用直接将广义DC型问题化为奇异积分方程的方法析出特征部分,然后通过对特征方程的研究得到了广义DC问题的可解条件和计算指标。  相似文献   
8.
介绍了镉镍电池直流配电屏的组成及功能,并对直流屏运行和操作中应注意的问题及镉镍蓄电池的维护等进行了阐述。  相似文献   
9.
高压脉冲电场杀菌技术在食品工业中的应用   总被引:14,自引:0,他引:14  
高压脉冲电场杀菌技术用于食品杀菌具有能耗低 ,时间短、有效保存食品营养成分和天然色、香、味等特点 ,具有广阔的工业化应用前景 .对高压脉冲电场的灭菌机理 ,影响因素 ,能耗与经济效益 ,研究现状前景等问题做了探讨  相似文献   
10.
ITO透明半导体膜的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用直流磁控溅射ITO陶瓷靶的高温低氧工艺,在玻璃衬底上成功地镀制了ITO透明半导体膜,其可见光透过率达80%以上,电阻率降到3×10~(-4)(?)cm以下。  相似文献   
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