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本文提出了一种新颖的超导铌微桥结构,利用简单的工艺作出了桥区小于1μ的超短铌微桥、在4.2K下观测到极好的超短桥电特性。
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本文报道了在国产JS—450A装置上,用射频磁控溅射制作高质量Nb膜的方法,所得Nb膜的Tc可达9.2K。在CS—308闭合循环制冷机上对于用这种Nb膜制成的超导微桥进行了低温测试,得到了Ic~T的变化关系和在微波辐照下的交流I—V特性。比外,本文还介绍了Nb膜阳极化研究的实验结果,以及Nb桥弱化处理方面的工作。
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