磁控溅射制备FeSi膜的性质

本文利用JGP-560CⅧ型带空气锁的超高真空多功能溅射系统在Si（100）和玻璃基底上沉积了介质薄膜、半导体薄膜、金属薄膜和磁性薄膜,通过实验研究得到各种薄膜较好的镀膜条件;并采用可变入射角椭圆偏振光谱仪对其中一些薄膜的光学性质进行了分析,研究了制备条件对薄膜在可见光范围内光学性质的影响;还研究了直流溅射、射频溅射、反应溅射的特点和它们的适用范围。     

TP77椭圆偏振光测厚仪功能的拓展研究

成功地将TP77椭圆偏振光测厚仪改装成卤钨灯或氙灯为光源的广谱椭偏仪。改装后的椭偏仪不含λ/4波长片，而配有一型号为WDG5001A的单色仪和一个X-Y函数记录仪，它可用来测量固体薄膜和片状材料的折射指数n(λ)和消光指数k(λ)。     

椭偏测厚实验CAI软件的改进

分析高校椭偏测厚实验在实验教学上出现的问题，采用Flash 5.0、Authorware5.0和VC^ 5.0为主要工具，成功地设计一套该实验的CAI软件，解决了早期版本存在的不足。     

关于PCSA式椭偏仪测量区域的研究

用琼斯矩阵法讨论了PCSA式椭偏仪的测量区域问题。对四个不同测量区域,分别得到了由起偏器与检偏器的消光位置,求出椭偏角φ与⊿的公式。     

用VF 6.0建立的椭偏仪数据查询处理系统

主要针对物理实验教学中椭偏仪实验数据处理中存在的问题，简单介绍了椭偏仪数据处理查询系统软件的设计思想和应用功能，该软件用可视化语言VisualFoxpro 6.0进行编程，成功地解决了椭偏仪数据处理中的一些困难，也能很好地满足科学研究和实验教学的要求，对面向小型数据库的数据处理系统的开发也有一定的参考价值。     

(AlxGa1-x)yIn1-yP表面氧化特性

利用双层吸收膜模型,采用消光式椭圆偏振仪,对用ＭＯＣＶＤ方法生长的（ＡｌｘＧａ１－ｘ）ｙＩｎ１－ｙＰ（本征）、（ＡｌｘＧａ１－ｘ）ｙＩｎ１－ｙＰ（掺Ｍｇ）和（ＡｌｘＧａ１－ｘ）ｙＩｎ１－ｙＰ（掺Ｓｉ）３个样品及它们的表面氧化膜的光学参数进行了测量和计算,并对其结果加以讨论．另外还在室温下对（ＡｌｘＧａ１－ｘ）ｙＩｎ１－ｙＰ（本征）表面氧化膜的生长速率及其厚度进行研究,并得到膜厚与时间的线性关系曲线     

椭偏法研究ZrO2薄膜的宽光谱特性

摘要：为了获得ZrO2薄膜的光学常数,采用了德国SENTECH生产的SE850宽光谱反射式光谱型椭偏仪,测量和分析了用光控自动真空镀膜机沉积在K9玻璃基底上的两个单层ZrO2薄膜样品,得到了ZrO2薄膜在300nm?2500nm宽谱上的光学常数曲线和薄膜厚度。结果表明：样品1采用Cauchy模型和Tauc-Lorentz模型得到的厚度和光学常数结果一致;对样品2把单层ZrO2薄膜分成三层得到的均方差（MSE）比没有分层的均方差少0.381,分层得到的ZrO2薄膜的厚度的测量值与TFCalc软件的计算值非常接近,同时得到薄膜的折射率曲线。该研究结果对应用ZrO2薄膜多层膜膜系设计和制备有参考价值。     

自动化椭圆偏振光谱仪的研制

介绍了新型自动化光度法椭圆偏振光谱仪的研制.测试结果表明:仪器对椭偏参数tanψ的重复性测量精度为±0.000 4,cos△的重复性测量精度为±0.001,膜厚的相对误差小于0.5%.     

高精度自动化椭圆偏振光谱仪

报导了４８６／８０计算机控制的自动化的转动检偏计式的光度法椭圆偏振光谱仪的设计和制造．仪器主要由光学系统、机械转动控制系统和数据采集系统组成．其频谱范围２００～９００ｎｍ，入射角可在５～８５°连续改变，灵敏度达０．１μＷ光强，有很高的精密度，折射率ｎ达０．００２量级，消光系数ｋ达０．００３量级，准确度ｎ达０．００１量级，ｋ达０．００２量级．实验检验了仪器的精密度和准确度．并讨论了其应用     

TPP-1型椭偏谱仪测膜厚的探讨

 说明原椭偏谱仪不能直接测量膜厚,提出外加波长片后可以测量膜厚的2种方法.