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1.
首先,对孔型加工及走刀方式进行分析,为提高打孔机效能,采用两钻头同时作业的方式。然后,根据相关的数据,应用动态优化的相关理论建立数学模型,并运用遗传算法进行求解,从而确立了双钻头作业时的最优作业线路、最佳行进时间和作业成本,并用MATLAB编写程序画出了相应图形,更加形象地显现出了各个路段的最优作业方案。 相似文献
2.
高通量材料合成方法和高通量材料表征手段区别于传统低效率的 "试错法"材料发展方法, 极大地加速了材料科学的变革和发展. 通过设计程序进行了高通量 X 射线衍射实验, 在保证数据分辨率条件下, 高效地表征了 La$_{1-x}$Sr$_{x}$TiO$_{3}$ 薄膜上多个数据位点的晶体结构, 验证了其成分的连续变化性质, 为后续开展更多类型的高通量 X 射线衍射实验提供了指导. 相似文献
3.
根据光的电矢量满足的边条件,对各向同性介质与单轴晶体界面上e光波法线的折射进行了具体的讨论,得到了确定e光波法线在单轴晶体中传播方向的公式,并对几种特殊情况进行了具体讨论。指出了由所得结果可以确定e光光线的行进方向。 相似文献
4.
本文讨论了侧链含有亚甲氧基连接基高分子液晶的合成及表征.用酚类与苯甲基氯制备了六种单体,用硅氢加成法合成了高分子液晶.六种单体为:4-(4—烯丙氧基苯甲氧基)联苯(M1),4’—甲氧苯基4—烯丙氧基苯甲醚(M2),4’—甲苯基—4—烯丙氧基苯甲醚(M3),苯基4—烯丙氧基苯甲醚(M4),4—(4-烯丙氧基苯甲氧基)4’—甲氧基联苯(M5),4—(4—甲氧基苯甲氧基)-4’—烯丙氧基联苯(M6).用偏光显微镜和DSC测定了单体和高分子液晶的相转变温度和介晶范围,单体M5和M6显示较好的液晶性,聚合物PM1、PM5、PM6、P(M2—M5)和P(M2—M6)显示出较好的液晶性,共聚物液晶比其它高分子液晶的介晶范围宽. 相似文献
5.
LaMnO3不同晶位掺杂的磁电阻效应 总被引:2,自引:0,他引:2
任清褒 《西安交通大学学报》2004,38(6):645-648,656
基于研究钙钛矿型氧化物磁电阻效应的目的,采用固相反应法制备了实验所需的单相多晶样品,主要就La位二价金属离子掺杂和稀土互掺及Mn位掺杂对LaMnO3磁电阻影响的实验结果作比较研究,发现La位稀土互掺对磁电阻的影响可以用晶格效应来解释,并明确指出La位和Mn位掺杂是提高和调制钙钛矿型锰氧化物超大磁电阻效应的一种有效途径. 相似文献
6.
Two decoration techniques, solidification-induced band texture decora tion and focal-conictexture decoration, have been established to exhibit the director field of disclinations in a low-molar-mass methacrylate liquid crystal. The disclinations with strength s = 1/2 and s = ±1 are observed by the two decor ation methods. For the solidification-induced band texture decoration, the molecular orientation is perpendicular to the direction of the band. While for focal- conictexture decoration, it has been proved by the results of IR dichroism that the direction of the director is parallel to the direction of the focal-conic. Therefore, the sketch map of the molecular director filed can be mapped according to the morphological pattern of the solidification-induced band textureor focal-conic texture. 相似文献
7.
图的嵌入理论是拓扑图论中一个中心课题.图的最大亏格嵌入的刻画和研究已较完善.但对于强嵌入,这方面的讨论却很少.本文对于平面上的不含不交(指无公共节点)圈的图以及完全图K5,利用构造强最大亏格嵌入的方法,给出了强最大亏格.同时,也给出了完全二部图K3,k(k≥3)的不可定向强最大亏格的一个下界. 相似文献
8.
对铝电解中的阴极反应、阴极过电压、阴极表面的双电层结构等阴极过程进行了研究,发现在+005~-005V(相对于铝阴极)电位区有一个还原电流峰和一个氧化电流峰,它们是Al3++3e→Al和Al-3e→Al3+·与阳极相比,阴极过电压较小,在001~3A/cm2的Taffel区,约为01V·在阴极表面的双电层中,第一层为Ca2+,Mg2+,Li+和Al3+离子,没有Na+离子,这说明,阴极过电压是因为Mg2+,Ca2+等离子形成的电化学双电层阻力所引起,同时也说明别略耶夫猜想基本是正确的· 相似文献
9.
10.
介绍了C语言程序设计中的难点问题——图形打印问题的解决方案,详细论述了如何利用代数方法来解决这一双重循环问题的具体措施。 相似文献