抗反射层结构平板声子晶体棱镜成像

采用数值模拟的方法，分析了抗反射层结构对平板声子晶体棱镜的透射压力场分布及成像的影响．分析发现：利用抗反射层结构可以减小棱镜界面的反射，提高成像质量，从而增强其实用性．该结论对声子晶体功能器件的实际应用具有一定的指导意义．     

聚碳酸酯多孔增透膜的制备及性能研究

将聚碳酸酯(PC)与聚苯乙烯(PS)进行溶液共混后旋涂成膜(spin-coating),然后利用共混薄膜在成膜后期及热处理过程中会产生相分离的特点,采用溶剂抽提技术,将薄膜中的PS组分去掉来制备聚碳酸酯基多孔增透膜,并通过改变两高分子组分间的质量比及溶液浓度来调节薄膜的增透效果.由紫外-可见分光光度计的测试结果可知:在二氯甲烷溶剂(3 wt%)中,PC/PS=70/30(w/w)条件下形成的PC多孔膜,其最大透过率可达到96%以上,此外该薄膜还具有聚碳酸酯材料的优良力学性能及热稳定性等优点,是一种很有应用前景的薄膜材料.     

山西襄矿集团上良煤业32206工作面CO_2预裂爆破增透消突试验研究

上良煤业是煤与瓦斯突出矿井,煤层属于低透气性煤层。针对上良煤业低透气性煤层瓦斯抽采难题,以该矿32206首采工作面为试验工作面,应用CO2预裂爆破增透技术,提高了煤层的透气性及瓦斯抽采率,降低了煤层瓦斯含量和瓦斯压力,消除了工作面煤层的突出危险性,技术效果显著,可为类似煤矿煤层瓦斯抽采提供借鉴。     

Glan-Thompson棱镜四层宽带减反射膜的设计与蒸镀

Glan-Thompson棱镜在光学领域有着重要的应用,透过率的高低和有效带宽的大小,直接影响着棱镜的品质．为了提高棱镜的透过率,拓宽有效使用带宽,利用薄膜特征矩阵的原理,设计了四层宽带减反射膜系,选用合适的光学薄膜材料,利用电子束蒸镀,借助于离子源辅助蒸镀,制作了高性能的宽带减反射膜．测试结果表明：平均剩余反射率小于1％,有效使用带宽达300nm,达到了设计要求．     

Antireflective characteristics of hemispherical grid grating

Subwavelength surface-relief gratings whose periods are smaller than incident wavelength have antireflective characteristics[1―4]. People could etch the surface of an optical element or a substrate to fabricate subwavelength surface relief grating to acquire low reflectivity; therefore, the grating could take the place of conventional optical thin films. Because the material of the surface relief grat-ing is the same as its substrate, the stability of the grating is better than that of the co…     

煤矿井下水力压裂关键参数计算方法研究

研究压裂控制机理对于提高煤矿井下水力压裂增透效果具有重要作用。结合理论研究与现场经验,分析水力压裂影响因素,提出水力压裂关键参数的计算方法,为煤矿井下水力压裂提供技术支撑。     

尺寸形貌对硅纳米锥阵列结构反射特性的影响

为了探讨不同尺度和形貌的硅纳米锥阵列结构表面的光学特性,采用基于纳米粒子自组装薄膜掩蔽的亚微米干法刻蚀工艺,在硅基材表面制备了纳米锥阵列结构,并对纳米锥阵列结构进行了形貌表征及光学测试。结果表明,采用SF6和C4F8混合气体,其体积流量分别为12sccm和27sccm,功率750 W,偏压25V时,可以获得光学减反射性能优异的纳米锥阵列结构。通过调节刻蚀时长获得形貌相似而尺寸不同的硅纳米锥阵列结构。200nm和400nm周期硅纳米锥阵列结构表面具有2%～3%的反射率,而800nm周期硅纳米锥阵列结构表面则接近于硅基材背面的反射率并高于10%,说明亚波长结构的减反射特性更加显著。从实验上揭示了尺寸形貌对硅纳米锥阵列结构反射特性的影响规律,为进一步研究光学器件方面的应用提供了参考。     

Study on antireflection SiO2 coatings fabricated by layer-by-layer deposition

Multifunctional (poly(diallyldimethyl ammonium chloride)/ sodium poly(4-styrene sulfonate)) _n ((PDDA/PSS) _n ) thin films were fabricated by layer-by-layer assembled on the glass substrate. The monolayer silica nanoparticles were prepared on the (PDDA/PSS) _n films. The SiO₂-polyelectrolyte coatings exhibit antireflection properties with low refractive index (as low as 1.22). Interestingly, wavelengths of maximum transmittance could be well tailored by simply changing the particle size of SiO₂. A maximum transmittance of 97.03% in the visible spectral range is achieved for the particle size of 100 nm SiO₂ films. The coatings also show excellent mechanical stability and good adhesion to substrates. The easy availability of the raw materials and simplicity of the fabrication method for such films might make them be potentially useful for various applications.     

长度可调的纳米线阵列近红外减反射特性

采用金属催化化学腐蚀方法在单晶硅表面制备了有序的纳米线阵列,研究了纳米线长度与腐蚀时间之间的关系,发现纳米线长度随着腐蚀时间的增加而增大。测试了所制备的具有纳米线阵列的硅表面在近红外1000nm～2500nm范围内的减反射性能。测试结果表明,与未处理的光滑硅表面相比,具有纳米线阵列的表面的反射率大辐降低,并随着纳米线长度的增加,反射率减小。     

400-1100nm波段用于格兰泰勒棱镜减反射膜的研制

为提高格兰泰勒棱镜的透射率和使用带宽,研究了400-1100nm超宽带减反射膜的设计、制备．利用数值优化技术设计了多层膜;采用沉积Al2O3为过渡层的方法,提高了薄膜和晶体的附着力．用电子束沉积和离子束辅助沉积的方法制备了多层减反射膜．采用石英晶体振荡法监控膜厚和沉积速率．测量结果表明平均剩余反射率均小于1．7％．测试薄膜与冰洲石晶体的附着力性能良好．