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以钽氮化物为个体层材料,利用FJL560CI2型超高真空射频磁控与离子束联合溅射系统,制备以TaN和金属Ta为靶材的两种TaN单层薄膜.通过XRD和纳米力学测试系统分析它们的晶体结构和TaN靶材对薄膜机械性能的影响.结果表明,TaN靶材制备的TaN单层膜的纳米硬度值普遍高于Ta靶材的;当工作气压为0.4 Pa时,TaN单层膜的硬度最大,即35.4 GPa,其结晶出现多元化,使单层膜的硬度、弹性模量以及膜基结合性能均达到最佳. 相似文献
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TaN膜的结构,成分及性能 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了三极溅射法制备的TaN膜的结构、成分及其性能。实验发现:随着氮分压的增加,TaN膜的结构将从面心立方相转变为六方相;TaN膜的显微硬度在单一相结构时最大,而以双相共存时的显微硬度较低。 相似文献
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利用离子束辅助沉积(IBAD)技术制备TaN薄膜;掠入谢的X射线衍射和透射电镜观察结果显示,薄膜晶粒细小、结构致密,是面心立方结构。 相似文献
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首次报道了用微波等离子体化学气相沉积技术在TaN2电阻材料上沉积高质量金刚石薄膜的制备工艺,以及扫描电镜,X射线衍射,拉曼光谱,压痕测试的测试结果,从实验上表明了CVD金刚石薄膜作用TaN2热打印头表面保护层的可能性。 相似文献
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