交流阻抗法对几种铜缓蚀剂比较研究

采用交流阻抗法研究了在ＮａＣｌ溶液中缓蚀剂ＢＴＡ、ＴＴＡ、５ＭＢＴＡ ＣＢＴＭＥ对铜电极的缓蚀行为并进行了比较。４种缓蚀剂的缓蚀性均随浓度的增加而增加，当浓度达到７０ｍｇ／Ｌ时缓蚀性最佳。缓蚀剂浓度低于２０ｍｇ／Ｌ时ＢＴＡ、ＴＴＡ、５ＭＢＴＡ有效好的缓蚀性，超过４０ｍｇ／Ｌ时ＣＢＴＭＥ的缓蚀性明显优于其他３种。复合配方试验结果表明，当缓蚀剂总浓度为４０ｍｇ／Ｌ，ＢＴＡ与５ＭＢＴＡ复配的最佳比例为２     

激子复合区随温度移动对OLED磁效应的影响

制备了DCM掺杂层靠近阴极的双发光层有机发光器件ITO/CuPc/NPB/Alq3（发射绿光）/Alq3：DCM（发射红光）/LiF/Al,并在不同温度下测量了该器件和无DCM掺杂的单发光层参考器件的磁电致发光（Magneto-ElectroLuminescence,MEL）和磁电导（Magneto-Conductance,MC）.在注入相同电流密度下,发现双发光层器件MEL的高场（B50mT）效应随温度降低呈现先减小后增大的非单调变化,这与单发光层参考器件的单调递增变化明显不同.同时测量了不同温度下的电致发光光谱,发现双发光层器件的533nm和600nm两个特征峰的强度随温度变化出现了此消彼长的现象,表明激子复合区域随温度变化发生了移动.通过分析工作温度对器件各发光层中的三重态激子对间相互作用及载流子迁移率的影响,对双发光层器件中MEL的高场效应随温度的非单调变化进行了定性解释.实验结果进一步验证了在单发光层器件中得到的有机磁效应高场变化的相关结论.     

不同温度下单重态激子裂变对Rubrene有机电致发光磁效应的影响

采用具有单重态激子裂变（Singlet Exciton Fission,即STT过程）的红荧烯（Rubrene）作为发光层制备了有机发光器件,并在不同温度下（15KT300K）研究了器件发光随外加磁场的变化（即Magneto-Electro Luminescence,MEL）.实验发现,与不具有STT过程的参考器件相比,Rubrene器件的MEL无论是在线型还是在幅度方面都表现出了新现象：室温下参考器件的MEL主要表现为低磁场下的快速上升和高磁场下缓慢增加直至逐渐饱和的特点,但Rubrene器件MEL的低磁场部分受到很大抑制且其高磁场部分一直增加而没有表现出饱和迹象,其线型也有很大不同;另外,这些特性受温度的影响较大,其光谱随温度的降低还出现了红移.通过对磁场作用下器件的超精细相互作用、STT过程和三重态激子湮灭过程（Triplet-Triplet Annihilation,TTA）以及这些微观过程温度效应的综合分析,认为室温300K下器件的MEL可用超精细相互作用和STT过程来解释,低温15K下器件的MEL则是超精细相互作用与TTA作用叠加的结果.     

Synthesis and structure of Cu5(BTA)6(TTA)4·5DMF, copper-nitrogen cluster containing η3-benzotriazolate

The title cluster compound-Cu5(BTA)6(TT- A)4@5DMF was prepared using thenyltrifluoroacetone and benzotriazolate ligands. The crystal structure indicates that a tetrahedral array of Cu(1), Cu(2), Cu(3) and Cu(4) ions surrounding a central Cu(5) ion are held together by bridging tridentate BTA- and terminated by TTA- bond cap. The three nitrogen atoms of a BTA- bond three different copper ions to form a η3-benzotriazolate. The central Cu ion has a distorted octahedral structure and the surrounding Cu ions are 5 coordinated forming distorted tetragonal structures. The distances between the surrounding Cu(Ⅱ) ions and the central Cu(Ⅱ) ion are in the range of 0.3561-0.3755 nm and those between the surrounding Cu(Ⅱ) ions are in the range of 0.5785-0.6301 nm.     

Eu（TTA）4Rh6G三元配合物的合成及其荧光性质

合成了Ｅｕ（ＴＴＡ）４Ｒｈ６Ｇ三元配合物（ＴＴＡ：２－噻吩甲酰三氟丙酮；Ｒｈ６Ｇ：Ｒｈｏｄａｍｉｎｅ６Ｇ）．对该配合物作了元素分析，ＤＴＡ－ＴＧ分析和电导分析，测定了它的ＩＲ和ＵＶ吸收光谱，确定其化学组成为Ｅｕ：ＴＴＡ：Ｒｈ６Ｇ＝１：４：１，为离子缔合型．它的不同有机溶剂的溶液，在３６５ｎｍＵＶ灯照射下均能发出较强的荧光．其甲醇溶液和固态荧光光谱的最大发射峰分别为５６０．５ｎｍ和６２７．５ｎｍ．     

Synthesis and structure of Cu5(BTA)6(TTA)4 · 5DMF, a copper-nitrogen cluster containing η Π3-benzotriazolate

The title cluster compound—Cu₅(BTA)₆(TTA)₄·5DMF was prepared using thenyltrifluoroacetone and benzotriazolate ligands. The crystal structure indicates that a tetrahedral array of Cu(1), Cu(2), Cu(3) and Cu(4) ions surrounding a central Cu(5) ion are held together by bridging tridentate BTA^- and terminated by TTA^- bond cap. The three nitrogen atoms of a BTA^- bond three different copper ions to form a η³-benzotriazolate. The central Cu ion has a distorted octahedral structure and the surrounding Cu ions are 5 coordinated forming distorted tetragonal structures. The distances between the surrounding Cu(Ⅱ) ions and the central Cu(Ⅱ) ion are in the range of 0.3561—0.3755 nm and those between the surrounding Cu(Ⅱ) ions are in the range of 0.5785—0.6301 nm.     

稀土配合物Eu(TTA)_3(TPPO)_2的合成、表征及发光性质研究

制备了Eu(TTA)3(TPPO)2二元及三元稀土配合物,通过热重差热分析、红外光谱、紫外光谱和元素分析对配合物的组成、结构进行了表征.研究了配合物溶解性、热稳定性和TPPO第2配体加入对配合物发光性的影响.荧光光谱的研究表明,第2配体的加入能有效地增强铕离子发光强度,配合物具有良好的发光性能,在紫外光激发下显示出Eu3+的特征发射峰,发出很强的红色荧光,是一种有潜在应用前景的红光发光材料.     

一种Eu3+-AAO-TTA新型复合发光材料的研究

合成了一种共聚型低聚物的新型三元复合物Eu3+-AAO-TTA(AAO:低聚丙烯酰胺-丙烯酸,n(丙烯酰胺)/n(丙烯酸)=7∶3,数均相对分子质量为10000; TTA:荧光敏化剂2-噻吩甲酰三氟丙酮)并测定了其荧光光谱.三元复合物的荧光强度是二元复合物Eu3+-AAO荧光强度的21倍,并且比强发光物质NaEu(TTA)4的荧光强度更强.研究了pH值、Eu3+-低聚物物质的量比、Eu3+-TTA物质的量比对复合物荧光强度的影响.所得三元复合物具有作为优良发光材料的应用前景.