微光学元件芯模的光刻工艺研究

光刻法作为微光学元件的主要生产工艺,如何提高光刻加工工艺已经成为一个日益紧迫的问题,本文使用北京化学试剂研究所生产的BP-215系列紫外正型光刻胶,以分辨率板直接作为参考对象来判别光刻工艺的分辨率,并且在优化各控制变量的前提下,得出最佳工艺参数并对噪声进行分析。