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1.
介绍了制备人造单晶金刚石的技术途径及发展现状,重点讨论并对比了几种化学气相沉积法(CVD)金刚石制备技术的优缺点,详细阐述了基于微波等离子体CVD (MPCVD)法的同质连接技术——一种突破晶体尺寸限制,实现大尺寸单晶金刚石的有效途径。通过该技术实现了英寸级单晶金刚石晶片的制备,并针对横向生长、界面质量及演化、三维结构连接控制等核心科学技术问题进行了分析和讨论,展望了其在尖端应用领域的发展前景。 相似文献
2.
实验以CH3CH2OH和H2 为气源,用微波等离子体CVD法沉积金刚石膜,并用金相显微镜(×400)观察其沉积效果,X射线衍射仪表征其成膜质量,最后分析反应气压对金刚石膜的影响. 相似文献
3.
本文是根据R.E特内、R.L考夫曼等人之作编译而成。大尺寸充气体黑洞具有类似于国家点火装置(NIF),所预期的等离子体条件,可用来测量受激布里渊散射(SBS)。上述等离子体是热的(3keV),电子密度高,处于似稳态,而在大于2mm长度上是均匀的。另外,还介绍了类似的NIF照射条件,低SBS背光的观测。 相似文献
4.
5.
6.
陆全康 《复旦学报(自然科学版)》2002,41(2):196-201
为建立相对论经典等离子体统计力学作准备,讨论了相对论带电粒子经典多体问题,重点分析相对论流线分布函数和动力学方程组。 相似文献
7.
直流电弧等离子体射流法沉积金刚石薄膜 总被引:1,自引:0,他引:1
金刚石以其卓越的理化性能而受到人们普遍重视。近年来兴起的低压气相合成法,为金刚石在各领域中的更广泛应用提供了光明的前景。但诸多种低压合成法的不足之处在于金刚石的沉积速率还比较低,在某种程度上限制了它的应用范围。直到80年代末,才在日本出现了一种高速沉积金刚石薄膜的方法,就是直流电弧等离子体射流方法,其沉积速率比其它低压法要高几倍到几十倍。 相似文献
8.
9.
本文采用氢气为载气和等离子体工作气体,以苯和二氧化碳为例,对不同电离电位样品组分经过和不经过等离子体两种样品引入检测器方式进行了详细的对比研究,发现检测器分别具有质量型和浓度型检测器的响应特征.探讨了空气引人等离子体对检测器分析性能的影响. 相似文献
10.
桥接到金属电极上的原子线,在纳米电子学中被视作一种分子联结,是当前低维系统电子输运研究中的热点.本文对金属电极-原子线-金属电极系统进行了简化,合理地构造出简单的类似分子的模型,利用传统的量子化学从头计算方法,计算了金属电极-原子线-金属电极的能级结构、电极与原子线间的轨道能量、电行转移以及布居分析.计算结果表明:原子线在连接不同结构类型的电极后电荷转移明显不同,体现了不同电极与原子线的相互作用,这些不同于以前的理论结果. 相似文献