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1.
2.
卢武星 《北京师范大学学报(自然科学版)》1994,(4)
1.0MeV208Pb离子在非晶Si中的投影射程RP和射程偏差ΔRP作为注量和温度二者的函数用背散射法进行测定.注量的变化范围为5×1013~7×1014cm-2.注入是在室温和t=-120℃下完成的.由由实验所确定的投影射程,射程偏差与注量或温度无关,并且分别等于295和72.2nm.与TRIM86的计算结果相比较,发现RP的偏离为18%,而ΔRP的偏离为36%.RP和ΔRP二者与注量及温度的无关性,排除了所观察到的与TRIM的矛盾是由于注入期间辐射增强扩散或离子束混合效应而引起的解释。 相似文献
3.
4.
共线快离子束-激光光谱学具有选择性激发,测量精度高等优点而被用于研究原子、分子和原子的同位素位移,激发寿命和超精细结构,介绍了利用快离子束-激光共线技术测量NdⅡ亚稳态4f^45d^6K13/2和激发态(25524)13/2°的超精细结构,并定出相应的超精细相互作用常数。 相似文献
5.
微组装纳米多层材料的力学性能研究 总被引:5,自引:0,他引:5
为研究探索新材料,采用离子束溅射沉积的方法制备了子层厚度为纳米量级的陶瓷/金属以及陶瓷/高分子多层膜。对这些纳米多层膜的结构和硬度、韧性行为进行了研究。发现纳米多层膜的硬度行为强烈地依赖于材料系统,在某些系统中出现了超硬度效应,而在某些系统则没有这一现象。纳米多层膜的韧性比单相的陶瓷材料有明显提高。硬度、韧性等力学行为与多层结构的组分比例、调制波长等参数有关。研究表明纳米多层结构是获取具有优良力学性能新材料的有效途径。 相似文献
6.
对化学法清洗硅片过程中消除颗粒的机理作了定量的探讨。颗粒的清除是由于化学蚀刻和颗粒与表面排斥力共同作用的结果。首次提出了最浅蚀刻深度和最小蚀刻速度的概念。最浅蚀刻深度可通过颗粒与表面间作用能的关系进行计算。是小蚀刻速度则可通过蚀刻侧形进行计算。研究结果对于优化化学法清洗过程和设计高性能清洗液都具有重要意义。 相似文献
7.
从三个方面分别论述了创造水稻新种质的必要性、促进水稻遗传改良的可能性和培育超级稻新种质的方向性。随着离子束生物技术的不断改进和完善,它在水稻遗传改良中的作用会越来越明显。在今后的研究过程中其技术思路可以用“诱变介导,生殖发育,倍性变化,特异种质”这16个字进行概括。 相似文献
8.
9.
研究了能量为25keV的氮离子束照射后大肠杆菌细胞基因表达水平的变化.结果表明:(1)N + 离子照射后细胞总蛋白表达水平显著提高.(2)应用差异mRNA表达(DDRT-PCR)技术并与点杂交方法相结合,使用两组引物组合,成功地从E.coli(DH5α)细胞中分离了共计23条差异表达片段:12条基因表达开启(损伤诱导表达),4条表达关闭,6条表达增加,1条表达减少.证明低能离子束诱发E.coli的基因表达变化是明显和多样性的. 相似文献
10.
含铜蚀刻废液的综合利用—硫酸铜生产工艺研究 总被引:11,自引:1,他引:11
采用酸性蚀刻液与碱性蚀刻液混合沉淀铜的方法,生产工业硫酸铜,不用蒸发浓缩,工艺简单,成本低.对影响产品质量和产率的主要因素pH,化浆用水量和浓硫酸用量进行了探讨,找到了最佳工艺条件,产品质量符合GB437-80. 相似文献