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1.
本研究用膏剂法进行无孔渗硅研究,透射电镜、电子探针和M351腐蚀仪分析证实:获得了致密、无孔隙、具有良好耐磨性和耐腐蚀性的渗硅层,并分析了渗硅层形成机理及表层疏松层以及内部孔隙成因。 相似文献
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4.
用同步辐射XRF研究单晶硅中掺杂元素As的分布 总被引:1,自引:0,他引:1
半导体材料中掺入少量杂质元素可以改变材料性能,掺杂元素在晶体中的含量和分布直接影响材料的质量。电子技术的发展需要批量生产出高质量的各种掺杂的硅单晶材料,这就要求建立一种快速准确的分析测试手段与之相适应。 同步辐射X射线荧光(SRXRF)是80年代发展起来的一种新技术。同步辐射光源具有高 相似文献
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6.
本书为施普林格出版社出版的《物理学先进教材丛书》中的一卷。这套丛书包含物理学流行和广泛关注的多种专题,也包含对现代物理学研究前沿的介绍。本书介绍光电子学器件及其在集成光学和纤维光学系统中的应用,特别强调这些应用中的物理学及相关的数学等。本书初版于1982年,分别在1984年、1991年和1995年出版第2、3、4版。本书为2002年出版的第5版。 相似文献
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8.
讨论了半导体激光放大器作为前置光放大器的噪声特性及其光学滤波,并提出最佳滤波带宽的概念,实验结果表明,采用具有光学滤波器的前置放大器可使接收机灵敏度提高SdB。 相似文献
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