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以八甲基环四硅氧烷(D4)作为模型单体,分别使用高速分散机、超声波仪和高压均质机制备了D4细乳液,使用多重光散射稳定性分析仪(MLS)分析比较了不同方法制备的D4细乳液的稳定性,并通过稳定性的分析,研究了均质压力和乳化剂浓度对单体细乳液的稳定性的影响。结果表明,在同样的乳化剂浓度下采用高压均质机制备的细乳液稳定性最好,能够稳定进行细乳液聚合;随着均质压力(10~110 MPa)增大,D4 细乳液的稳定性先增强后减弱,在90 MPa下制备的细乳液稳定性最好,乳液粒径增长速率仅为0.342 nm/min;随着DBSA浓度(0.0092~0.0460 mol/L)增大,在相同均质条件下(90 MPa 下均质4次)制备的单体细乳液稳定性增强,粒径增长速率都小于0.505 nm/min,具有较好的稳定性。 相似文献
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以八甲基环四硅氧烷(D4)为原料,磺酸型双子表面活性剂为乳化剂(兼催化剂),制备了一种新型的有机硅乳液.考察了反应温度、乳化剂的用量、反应时间对乳液体系的粒径、D4的转化率、黏均分子量和力学稳定性的影响.结果表明:采用单体滴加法,在85℃高温聚合8h,然后25℃低温聚合12h,乳化剂用量为单体用量的10%,在此条件下制备的产品为微透明且具有优异稳定性能的乳液,D4转化率较高,该乳液经破乳后得到的聚硅氧烷(PDMS)黏均分子量达到2.38×105g/mol. 相似文献
3.
D4阳离子型细乳液的制备及其稳定性 总被引:10,自引:1,他引:10
八甲基环四硅氧烷(D4)细乳液聚合的成核场所是单体液滴,其液滴尺寸决定了聚合机理与乳液稳定性。文中研究了D4阳离子型细乳液的制备技术及其静置稳定性和离心稳定性。结果表明助乳化剂的溶解与扩散、乳化剂对单体液滴的覆盖程度,助乳化剂与乳化剂的协同作用、均质化强度对成核方式和细乳液稳定性均有显著影响。通过均质化分散技术,在少量乳化剂和助乳化剂存在下,制备了窄分布、平均粒径小于100nm的稳定的D4细乳液,可实现D4阴离子开环细乳液聚合。 相似文献
4.
氨基改性有机硅阴离子乳液共聚研究 总被引:2,自引:0,他引:2
周安安 《浙江科技学院学报》2004,16(4):244-248
以八甲基环四硅氧烷(D4)为单体,γ-氨丙基三乙氧基硅烷(KH550)为氨基改性单体,十二烷基苯磺酸(DBSA)为酸催化荆及阴离子乳化剂,进行氨基改性有机硅阴离子乳液共聚,用红外光谱(IR)表征合成聚合物结构。研究发现,该乳液共聚转化速率符合典型的D4本体可逆平衡聚合特征,并探讨了分子量及聚合物链浓度随反应的变化规律。此外,还研究了非离子乳化剂、搅拌强度对乳液外观及稳定性的影响。 相似文献
5.
采用八甲基环四硅氧烷(D4),活性有机硅和丙烯酸酯乳液共聚,形成了稳定的有机硅-丙烯酸酯共聚,红外光谱(IR)和凝胶渗透色谱(GPC)结果表明产物具有预期的结构,在空气氛中的热重分析(DTA)结果表明共聚物的耐热氧化性能较普通的丙烯酸类涂料基料提高了30℃左右,性能达到了国外同类产品的水平。 相似文献
6.
本文研究了八甲基环四硅氧烷(简称D_4)在非离子表面活性剂存在下的复合阳离子乳液聚合和复合阴离子乳液聚合。讨论了反应温度,不同种类的乳化剂,催化剂,电解质等因素对聚合反应速度的影响。并且报导了不同条件下乳液聚合的动力学数据。探讨了非离子表面活性剂存在下的乳液聚合反应过程。 相似文献
7.
利用微波等离子体辅助化学气相沉积的方法,以H2、CH4和D4(八甲基环四硅氧烷)为沉积先驱物,探索了一种在硬质合金基底上制备出含Si元素的金刚石涂层的新工艺. 试图利用这种新的方法,进一步提高金刚石涂层对硬质合金基底的附着力. 实验结果表明:当D4的流量相对CH4的流量较大时,得到球团状的胞状组织;只有当D4和CH4的流量相当的情况下,才能沉积出质量较好的金刚石涂层,同时又含有少量的Si使金刚石涂层的附着力较好. 相似文献
8.
测定了八甲基环四硅氧烷(D4)分别与邻二甲苯、间二甲苯和对二甲苯组成的二元混合物在298.15K下全浓度范围内的密度、表面张力和黏度,计算了表面张力偏差和黏度偏差,并用Redlich-Kister多项式方程对实验数据进行了拟合。结果表明,上述3个二元体系的表面张力偏差和黏度偏差均为负值。 相似文献
9.
以聚合物粘度为指标研究了八甲基环四硅氧烷在相转移催化条件下的聚合反应。并对催化剂种类、用量,KOH用量,溶剂,反应温度和反应时间的影响做了考察。 相似文献
10.
在298.15 K时用振动管密度计在全浓度范围内测量了邻、间、对二甲苯分别与八甲基环四硅氧烷(D4)组成的3个二元液体混合物的密度,并计算了此3个二元体系的过量摩尔体积VE.3个二元体系的VE均为负值,大小顺序为:间二甲苯>对二甲苯>邻二甲苯. 相似文献