Study of an athermal infrared dual band optical system design containing harmonic diffractive element

A harmonic diffractive element (HDE) is first successfully introduced to the athermal system of infrared dual band in this paper. In this system, there are only three lens and two materials, silicon and germanium. When the temperature ranges from -70℃ to 100℃ in the dual band,it can simultaneously accomplish the rectification of the longitudinal aberration in the big field of view, as well as the wave front aberration less than 1/4 wavelength. Modulation transfer function of dual band approaches or attains the diffraction limit. The calculation results show that the spectral properties of the HDE are between refractive and diffractive elements, so we can design a simple dual-band and athermal optical system by selecting the thickness and central wavelength of the HDE exactly. Compared with a conventional refractive optical system, this system not only reduces the demand for high technical levels, but also has a compact structure, few elements, a high transmittance better aberrations performances and athermal character. At the same time, the use of the HDE also offers a new element for the infrared optics design.     

集成光学——理论和工艺学

本书为施普林格出版社出版的《物理学先进教材丛书》中的一卷。这套丛书包含物理学流行和广泛关注的多种专题，也包含对现代物理学研究前沿的介绍。本书介绍光电子学器件及其在集成光学和纤维光学系统中的应用，特别强调这些应用中的物理学及相关的数学等。本书初版于1982年，分别在1984年、1991年和1995年出版第2、3、4版。本书为2002年出版的第5版。     

纳米电光学的进展纳米光学系统的工业应用和动力学

本书主要论述纳米电光学的工业应用动力学的新进展，由18位专家学者撰写。     

显微／望远两用镜光学系统设计

设计了一种新型的显微／望远两用镜,讨论了此两用镜的光学系统设计方法案和光学系统设计方案和光学系统各结构参数,对所得的象差曲线结果进行了分析,给了一个此光学系统的结构参数实例和产品外形轮廓。     

用天天文成像的小倍率静电聚焦电子光学系统

设计与天文成像探测系统中的ＥＢ－ＣＣＤ相匹配的小倍率静电聚焦电子光学系统。方法 利用静电像管设计及优化设计软件包,结合已有的静电像管管型及积累的静电像管正设计和优化设计经验进行设计。结果设计了一种小倍率静电聚信优化电子光学系统,给出了相应的计算参数及结果,其结构及像质符合实际要求。     

一种特殊光学系统基点位置的三种解法

由有平面镜组成的折反光学系统,如图1所示,一般实验和研究领域内无不经常碰到。本文根据光学系统的等效理论,试用三种方法求出这种系统的主点和焦点位置。设折射系统的物像空间的介质折射率分别为ll和12,其焦距分别为人和f'1,折射系统与平面镜的距离为d,符号法则与文献［1］相同。图11作图法如图2所示,任作一条平行于主轴的人射线①,此光线经折射系统折射后,出射线②经过F"l点;光线②经平面镜反射时,遵从反射定律;再作一条与反射光线③平行且过F＇1点的辅助光线,此辅助光线经折射系统折射后成为平行于主轴的光线,连接它与折…     

累次成像光学系统模型的建立及应用

分析了物在任意位置且两次以上累次成像这一问题，利用透镜成像的基本公式对之建立了数学模型，并归纳出应用该模型设计光学系统的一般步骤．     

波动光学应用于成像光学系统装配公差的确定

给出一种利用波动光学原理计算成像光学系统，特别是非旋转对称系统的装配公差计算方法．采用光波波面描述物面上一个点发出的光在存在装配误差的系统中的传播过程．用菲涅耳衍射公式计算自由传播部分；用薄透镜的透射比计算通过透镜时的波面变化，由此得到射向像面的成像波面；通过对成像波面分布的分析推断成像情况；依据容许的成像质量确定装配误差．以一个含两个柱面透镜的成像系统为例，导出了确定这两个柱面透镜母线不正交性公差的公式．由此说明该方法可以解决不易用几何光学方法获得解析结果的问题．     

厄米-高斯光束通过硬边光阑光学系统变换的近解析传输公式

将硬边光阑门数函展开成复高斯函数,利用高斯光阑的ABCD矩阵形式,应用于厄米-高斯(H-G)光束,推导出了H-G光束通过内含硬边光阑的近轴ABCD光学系统的场分布的近解析传输公式,并与Collins公式计算结果比较,说明所得的解析结果的应用和优点.