真空紫外薄膜光学常数的多约束非线性方程组计算

本文推导出目标函数的导数公式，改进了利用“多约束非线性方程组”计算真空紫外光学常数的方法，我们自编了ＶＵＶ－ＲＯＣＰ微机软件，可由真空紫外反射率求出真空紫外薄膜光学常数和入射光的偏振度。运用该软件对不同工艺的Ａｕ、Ｐｔ、Ａｌ样品的反射率进行解析，得到了它们的真空紫外薄膜光学常数，并与国外报道的结果进行了比较。     

基于同步辐射的紫外-真空紫外光谱辐射测量装置的研制

研究基于同步辐射的紫外-真空紫外光谱辐射测量装置. 通过切换前置镜位置来完成同步辐射光源和传递标准光源的测量. 讨论了辐射计偏振特性对测量结果的影响. 根据Schwinger提出的理论公式,利用同步辐射作为基准辐射源,在115～350nm的波长范围测量了作为传递标准的氘灯的光谱辐射亮度,测量不确定度为11%～14%.     

GdP3 O9:Dy0.01的同步辐射真空紫外光谱研究

研究了YxGd（1-x）P3O9：Dy0．01（x=1，0．95，0．5，0）的真空紫外激发和发射光谱．直接观测到了Dy^3＋在真空紫外波段的5d→4f发射，发现随着Gd^3＋含量的增加，Dy^3＋的5d→4f发射迅速减弱，这表明Gd^3＋的存在分流了Dy^3＋ 5d HS激发态的能量．基于实验结果，提出了一个量子剪裁模型．     

光谱连续的脉冲真空紫外(VUV)辐射源研究

报道了一种光谱连续的真空紫外辐射源的设计和特性研究。为提高其辐射强度,辐射源设计在高气压、短脉冲状态工作。实验测得当充氢0.2~0.9MPa、极距0.4~0.8mm时,辐射源击穿电压为4~10kV,脉冲宽度1.2~2.2×10^-7s.与充氢压强、极间距有关,用Meek的击穿判据,理论计算了击穿电压,用放电通道膨胀理论,计算了放电脉冲宽度,发现两者都与实验基本相符。真空紫外辐射源的轴向光谱辐亮度,用一事先标定好的真空紫外光谱探测系统测量,其连续光谱辐射主要在140~160nm和175~200nm两个区间,来源于氢分子辐射,其最大积分轴向辐亮度可达11mW/Sr·cm²。     

平面型氙准分子灯特性及其在降解水相枣红中的应用

研究了平面型氙准分子灯的真空紫外(VUV)辐射特性,电源电压、频率和充气压强对辐射强度和效率均有影响.研究表明在正弦电压驱动下,充气压3×104Pa左右时有最佳辐射强度和效率.在本实验中用于水处理实验的氙准分子灯参数为电压4kV,频率20kHz,气压3.8×104Pa,对应的辐射功率为25.4mW(光子流量2.2×10-6einstein·min-1).选用偶氮类染料枣红作为被分解物质,发现氙准分子灯的172nm辐射能够有效地使枣红解离,解离反应呈准一级反应,解离速率为9.28×10-8mol·min-1,光量子产额4.2×10-2mol·einstein-1.有机物初始浓度、溶液pH值、光强等都会对解离率产生影响.在氙准分子灯和反应溶液不直接接触时,发现解离率和COD(化学需氧量)去除率并不一直随着光强增加而增大,而有一最佳值.     

Combustion study with synchrotron radiation singlephoton ionization technique

Here we report a combustion endstation at National Synchrotron Radiation Laboratory (NSRL) and some primary experimental results. Synchrotron radiation can provide the tunable vacuum ultraviolet (VUV) photon with the high intensity and the good collimation. VUV photoioni-ation is a single-photon ionization process. Combined with molecular-beam mass spectrometry (MBMS), the VUV single-photon ionization can be applied to detect the combustion products, especially the intermediates and free radicals produced from combustion process. This method is proved to be a powerful tool for combustion study, which could be helpful for developing combustion kinetic models and understanding the mechanism of combustion reactions.     

GdP_3O_9:Dy_(0.01)的同步辐射真空紫外光谱研究

研究了YxGd1-xP3O9:Dy0.01(x=1,0.95,0.5,0)的真空紫外激发和发射光谱.直接观测到了Dy3 在真空紫外波段的5d→4f发射,发现随着Gd3 含量的增加,Dy3 的5d→4f发射迅速减弱,这表明Gd3 的存在分流了Dy3 5d HS激发态的能量.基于实验结果,提出了一个量子剪裁模型.     

掺杂元素对BaAl12 O19:Mn2+荧光粉发光性能的影响

使用高温固相反应法合成了BaAl12O19:Mn2 荧光粉,研究了Mg,Sr,Eu掺杂元素对荧光粉发光性能的影响.研究结果表明:Mg,Sr的掺杂明显改善了荧光粉的结晶状况,有效地改善了其在VUV激发下的发光性能;随着Mg摩尔分数的增加,相对亮度先升高后降低,色品性能变优;随着Sr摩尔分数的增加,亮度呈先升高再降低的趋势,色坐标变化不大;Eu的掺杂对BaAl12O19:Mn2 荧光粉的发光性能起不利影响,使发光亮度降低、色坐标变差,且使抗热劣化性能明显下降.     

PDP荧光粉的优化研究

由于大屏幕显示器的迅猛发展，使等离子平板显示器（plasma display panel，PDP）受到了很大的关注．本文综述了PDP的关键材料之一——荧光粉的发展现状和近期的研究方向．针对PDP荧光粉发光效率低、色纯度较差、易产生劣化、使用寿命短等不足，介绍了当前的几种研究手段：改变荧光粉的煅烧条件、采用新型的制备手段合成荧光粉、寻找适用于真空紫外光激发的优良基质材料和对激活剂进行有效能量传递的稀土敏化剂、使用量子剪裁效应等，从而获得提高荧光粉发光效率的新途径．     

衬底材料对直接光化学汽相淀积类金刚石碳膜成膜初期的影响

以微波激励氙（Ｘｅ）发射的真空紫外（ＶＵＶ）光作光源,乙炔（Ｃ２Ｈ２）作反应气体,氮（Ｎ２）、氩（Ａｒ）和氢（Ｈ２）气为稀释气体,采用直接光化学汽相淀积（ＣＶＤ）工艺,在硅（Ｓｉ）、钼（Ｍｏ）及玻璃衬底上进行了类金刚石碳（ＤＬＣ）膜的淀积生长。通过光电子能谱（ＸＰＳ）和扫描电子显微镜（ＳＥＭ）的测试与观察,研究了在同样工艺条件下不同衬底材料对ＤＬＣ膜成膜初期碳原子的吸附、凝聚及成核过程。实验结果表