大尺寸单晶金刚石同质连接技术

介绍了制备人造单晶金刚石的技术途径及发展现状,重点讨论并对比了几种化学气相沉积法(CVD)金刚石制备技术的优缺点,详细阐述了基于微波等离子体CVD (MPCVD)法的同质连接技术——一种突破晶体尺寸限制,实现大尺寸单晶金刚石的有效途径。通过该技术实现了英寸级单晶金刚石晶片的制备,并针对横向生长、界面质量及演化、三维结构连接控制等核心科学技术问题进行了分析和讨论,展望了其在尖端应用领域的发展前景。     

反应气压对生长金刚石膜的影响

实验以CH3CH2OH和H2 为气源,用微波等离子体CVD法沉积金刚石膜,并用金相显微镜(×400)观察其沉积效果,X射线衍射仪表征其成膜质量,最后分析反应气压对金刚石膜的影响.     

大尺寸充气体黑洞中激光等离子体相互作用

本文是根据Ｒ．Ｅ特内、Ｒ．Ｌ考夫曼等人之作编译而成。大尺寸充气体黑洞具有类似于国家点火装置（ＮＩＦ），所预期的等离子体条件，可用来测量受激布里渊散射（ＳＢＳ）。上述等离子体是热的（３ｋｅＶ），电子密度高，处于似稳态，而在大于２ｍｍ长度上是均匀的。另外，还介绍了类似的ＮＩＦ照射条件，低ＳＢＳ背光的观测。     

相对论带电粒子经典多体问题

为建立相对论经典等离子体统计力学作准备，讨论了相对论带电粒子经典多体问题，重点分析相对论流线分布函数和动力学方程组。     

直流电弧等离子体射流法沉积金刚石薄膜

金刚石以其卓越的理化性能而受到人们普遍重视。近年来兴起的低压气相合成法,为金刚石在各领域中的更广泛应用提供了光明的前景。但诸多种低压合成法的不足之处在于金刚石的沉积速率还比较低,在某种程度上限制了它的应用范围。直到80年代末,才在日本出现了一种高速沉积金刚石薄膜的方法,就是直流电弧等离子体射流方法,其沉积速率比其它低压法要高几倍到几十倍。     

微波等离子体离子化检测器研究

本文采用氢气为载气和等离子体工作气体，以苯和二氧化碳为例，对不同电离电位样品组分经过和不经过等离子体两种样品引入检测器方式进行了详细的对比研究，发现检测器分别具有质量型和浓度型检测器的响应特征．探讨了空气引人等离子体对检测器分析性能的影响．     

让等离子体电视走进你的生活

随着等离子体电视的诞生,曾独领风骚的阴极射线管彩电似乎已达至极限,制造更大尺寸的阴极射线管无论材料、结构、工艺上都相当困难;电子束扫描形成的图像清晰度、色彩、几何变形也很难进一步提高;画面闪烁、辐射更难以克服。液晶显示器虽有轻、薄、无辐射、无闪烁等优点,但是对比度一般只有300∶1,像素质量不高和反应速度慢更是致命弱点。