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1.
介绍了制备人造单晶金刚石的技术途径及发展现状,重点讨论并对比了几种化学气相沉积法(CVD)金刚石制备技术的优缺点,详细阐述了基于微波等离子体CVD (MPCVD)法的同质连接技术——一种突破晶体尺寸限制,实现大尺寸单晶金刚石的有效途径。通过该技术实现了英寸级单晶金刚石晶片的制备,并针对横向生长、界面质量及演化、三维结构连接控制等核心科学技术问题进行了分析和讨论,展望了其在尖端应用领域的发展前景。 相似文献
2.
本文是根据R.E特内、R.L考夫曼等人之作编译而成。大尺寸充气体黑洞具有类似于国家点火装置(NIF),所预期的等离子体条件,可用来测量受激布里渊散射(SBS)。上述等离子体是热的(3keV),电子密度高,处于似稳态,而在大于2mm长度上是均匀的。另外,还介绍了类似的NIF照射条件,低SBS背光的观测。 相似文献
3.
强直电流伸展弧CVD硬质合金金刚石涂层工具 总被引:1,自引:0,他引:1
采用自行研制的强电流直流扩展电弧设备对酸浸和渗硼预处理的YG6刀片进行了金刚石薄膜涂层沉积,并对放于不同位置的沉积刀片表面涂层的激光Raman谱和SEM形貌进行了分析、研究。结果表明:渗硼预处理工艺优于酸浸预处理工艺;在渗硼处理的GY6刀片上,沉积的金刚石薄膜涂层具有大面积、均匀性好和质量高的特点。 相似文献
4.
5.
陆全康 《复旦学报(自然科学版)》2002,41(2):196-201
为建立相对论经典等离子体统计力学作准备,讨论了相对论带电粒子经典多体问题,重点分析相对论流线分布函数和动力学方程组。 相似文献
6.
直流电弧等离子体射流法沉积金刚石薄膜 总被引:1,自引:0,他引:1
金刚石以其卓越的理化性能而受到人们普遍重视。近年来兴起的低压气相合成法,为金刚石在各领域中的更广泛应用提供了光明的前景。但诸多种低压合成法的不足之处在于金刚石的沉积速率还比较低,在某种程度上限制了它的应用范围。直到80年代末,才在日本出现了一种高速沉积金刚石薄膜的方法,就是直流电弧等离子体射流方法,其沉积速率比其它低压法要高几倍到几十倍。 相似文献
7.
8.
本文采用氢气为载气和等离子体工作气体,以苯和二氧化碳为例,对不同电离电位样品组分经过和不经过等离子体两种样品引入检测器方式进行了详细的对比研究,发现检测器分别具有质量型和浓度型检测器的响应特征.探讨了空气引人等离子体对检测器分析性能的影响. 相似文献
9.
随着等离子体电视的诞生,曾独领风骚的阴极射线管彩电似乎已达至极限,制造更大尺寸的阴极射线管无论材料、结构、工艺上都相当困难;电子束扫描形成的图像清晰度、色彩、几何变形也很难进一步提高;画面闪烁、辐射更难以克服。液晶显示器虽有轻、薄、无辐射、无闪烁等优点,但是对比度一般只有300∶1,像素质量不高和反应速度慢更是致命弱点。 相似文献
10.
以B2O3粉扩NH3为原料,用脉冲等离子体反应器合成BN,所得产品经X射线衍射,红外光谱分析表明,产品中除含六方氮化硼外,还含有少量立方氮化硼,生产工艺简单。 相似文献