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1.
本文提出绘制特征孔径的子午和弧矢场曲曲线的方法,用以控制各种象差的平衡,达到纵观光学系统焦深范围的目的。  相似文献   
2.
对传统自准直法的凹透镜焦距测量方法进行了分析,提出改进的自准直测凹透镜焦距方法.将移像屏法改进为移凹透镜法,消除了焦深对实验测量结果的影响.实验结果表明,修正的自准直法测量凹透镜焦距的精确度得到较大提高,平均相对误差减少3.93%,方差减小20.39mm2.  相似文献   
3.
对用于需要微米级线宽的平板显示器件、光电子与微电子产品等工业化生产中的激光投影成像(LPI)装置中的激光投影系统和激光照明系统的关键技术参数进行了分析.以248nmKrF深紫外激光作为光源,在装置整体性能设计要求下,理论推导和分析了符合实际场景的关键技术参数,包括分辨率、焦深、激光光源、曝光时间.得到了相关的具有一定参考价值的结论.  相似文献   
4.
提出空间滤波器的透镜焦距需同时满足真空度和透镜球差最小的要求,滤波小孔的发散角必须小于某一定值才能有效滤除高频分量,并由此计算出本文所用高功率激光系统中的空间滤波器的小孔孔径约为20倍衍射极限.同时,分析了滤波小孔在光轴上所处位置的范围,即得出只要处于距焦平面1.04mm的范围内都是合理的结论.利用光学设计软件Fred建立模型进行验证,模拟结果表明,根据本文提出的计算方法所设计的空间滤波器能够有效地滤除系统中的高频分量和杂散光.  相似文献   
5.
以加工焦深限制范围内的倾斜平面模型来模拟工件表面的微观不平坦状况,对激光束以一定倾角入射工件表面的光斑畸变及其对刻蚀质量的影响开展了理论和实验方面的初步探索.结果表明,随着激光束入射方向与工件表面法向的夹角(简称入射角)的增大,光斑畸变量也越来越大,振镜沿水平路径扫描的刻蚀线宽始终比竖直路径的大,刻蚀线长始终比竖直路径的小;相对于水平刻蚀路径,竖直刻蚀路径刻槽的任意位置经历的激光辐照时间更长,物质蒸发、重熔更充分,刻槽更深,金属重铸层更厚,刻槽的侧壁和底部形貌更为平整光滑.  相似文献   
6.
由于调焦对于空间成像光学系统是非常重要的,而合成孔径成像光学系统的成像特性和传统的光学系统有着很大的区别,因此对合成孔径空间成像光学系统的焦深进行分析是有必要的.对斯特列尔比、焦深判据和复杂光瞳光学系统的调制传递函数进行了分析,在此基础上对Golay-3光瞳分布进行了实例分析.结果表明,填充因子的变化对于焦深有着明显的...  相似文献   
7.
显微镜的光学技术参数包括:数值孔径、分辩率、放大率、焦深、视场宽度、覆盖差、工作距离和镜象亮度与视场亮度等,这些参数并不都是越高越好,它们之间是相互联系又相互制约,每个参数都有它本身一定的合理界限,在使用时,应根据镜检的目的和实际情况来协调各参数之间的关系,便显微镜处于最佳工作状态,发挥最佳效能.  相似文献   
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