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在新型的MBMI多束混合注入设备中、高真空条件下,在Ti6Al4V基底上采用化学配比态的强流N^+离子束,动态混合真空弧Ti等离子体束的沉积膜,得到高结合力(Lc:100N)超厚(10-30μm)的TiN膜。 相似文献
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