多晶硅薄膜淀积的核化和早期生长

研究了在常压SiH_4-H_2系统中,于1050C下,在不同衬底上所获得的多晶硅淀积层的结构和核化生长过程。实验发现,衬底性质对核化过程和早期淀积层结构有影响。与热生长SiQ_2衬底比较,SiO_2+Si_3N_4 复合衬底上的淀积具有核化过程发生早,岛核尺寸小密度高,淀积层晶粒细密等特点。SiO_2 同H_2及淀积硅的反应是影响高温条件下在SiO_2衬底上核化和生长的原因。文章还讨论了核化阶段的相变过程。     

单晶硅/多晶硅同步定积过程中的边缘效应及二维扩散滞流层模型

在选择复盖SiO_2或Si_■N_4的硅衬底上,进行了单晶硅和多晶硅的同步淀积实验。对于SiO_2-Si衬底,在相当广泛的实验条件下,观察到在SiO_2-Si边界附近存在着异常核化现象。即边缘效应,而在Si_3N_4-Si衬底上则不出现边缘效应。本文认为边缘效应的起因在于反应物沿衬底表面的水平扩散流,并提出了一个二维扩散滞流层模型。从这个模型出发,可以半定量地估计各工艺参数与边缘效应的关系,理论与实验观察很好地一致。     

ZMR SOI材料中的一种小平面缺陷

在ZMRSOI多层复合材料中观察到一种小平面缺陷,这种缺陷是硅衬底表面在ZMR处理过程中某些局部范围内发生熔化和再结晶的结果。本文介绍了该缺陷的特征,分析了热场的温度偏差容限,提出了改进多层结构设计的意见,最后论述了衬底表面局部熔化和再结晶过程,定性地解释了缺陷的主要特征.