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采用介质研磨法制备了阿奇霉素纳米晶,考察了机器转速、研磨时间、研磨珠的大小及用量、表面活性剂的种类及浓度、阿奇霉素的浓度等因素对产品粒径及多分散指数的影响.分别采用扫描电镜(SEM)、粒度测定仪、X射线粉末衍射(XRPD)、红外光谱仪(FT-IR)对纳米晶进行了分析和表征,同时对纳米晶和原料药进行了溶出性能研究.实验结果表明,在优化的条件下,可制备平均粒径为165nm的阿奇霉素纳米粒子,研磨前后药物的晶态没有明显改变;与原料药相比,纳米晶的溶出度有了显著提高. 相似文献
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