FDA输出的复位失真及其对CCD工作频率的限制

本文分析浮置扩散放大器(Floating Diffusion Amplifier)输出复位管的两种工作状态及其产生复位失真的原因,并导出了确定复位脉宽的公式.分析表明,当复位管导通时,它宜工作在饱和区.在这种情况下,它输出的复位噪声和干扰较小,但复位失真限制了CCD工作频率的上限.最后实验验证了理论分析的结果.     

三氯乙烯(TCE)氧化探讨

本文讨论了三氯乙烯氧化的工艺条件及其对清除Na~ 沾污、提高介质击穿电压、消除金属杂质、改善p-n结特性等方面的功能.作者发现,三氯乙烯的最佳流量(N_2携带TCE流量)随氧化温度的提高而减少.此外,还摸索出处理氧化炉管发黑的一种简便而有效的方法.     

线列CCD摄象器件暗电流的测试和研究

本文分析了电压(V_P-V_B)对线列CCD摄象器件暗电流及其不均匀性的影响,从而提出了在满足势阱容量的前提下尽量减小(V_P-V_B)以抑制暗电流引入的固定图形噪声的方法.另外,本文还分析了暗电流对信号调制度的影响,并指出了用“对消”的方法是不能完全消除暗电流固定图形噪声的.最后,提出了通过测量暗电流输出来测量少数载流子寿命的方法,并给出了实验和计算的结果.     

软金属压力接触快速C-V特性测量

本文讨论了In、Sn等金属作为电极进行压力接触MOS C—V测试的原理和方法,证明了氧化试片不进行背面腐蚀也能可靠地测量C—V特性.用这种方法,氧化试片出炉后只经过二十分钟的测试,即可得出介质膜中电荷密度等参数.