氩离子束溅射沉积PTFE高分子膜

用氩离子束溅射聚四氟乙烯靶材，在黄铜上沉积聚四氟乙烯薄膜，用ＸＰＳ和ＩＲＳ分析方法确定了聚四氟乙烯高分子膜的存在，并依据沉积膜形成过程对沉积膜与靶材在ＩＲＳ谱图上的差异给予了解释，结果表明，这种溅射沉积方法形成高分子薄膜是有效的。     

辅以动态氮离子轰击的氩离子束溅射沉积PTFE高分子膜

用辅以动态氮离子轰击的氩离子束溅射沉积方法，在３０４不锈钢基材上沉积聚四氟乙烯薄膜。经ＸＰＳ和ＩＲＳ分析，确定了聚四氟乙烯膜的存在并进行了结构分析。划痕试验表明：这种方法制成的聚四氟乙烯膜与基材之间有较好的结合力。     

低品位红土镍矿选择性还原焙烧中煤做还原剂最佳条件研究

【目的】本次研究从节能降耗的角度出发,研究我矿还原焙烧中煤做还原剂所能达到最佳条件,使煤消耗量最低,最终实现降低生产成本的目标。【方法】实验理论数据与生产实践中不断摸索创新的数据相比较,确定低品位红土镍矿选择性还原焙烧中煤做还原剂所能达到最佳条件。【结果】研究确定了最佳工艺条件为：采用无烟煤做还原剂,无烟煤灰分含量：8.89%,挥发分含量：28.28%,固定碳含量：61.27%;还原剂加入量为矿量的5%/吨矿石;还原剂粒度小于0.074mm,占60%;且不易结焦,窑周期长。【结论】无烟煤在以上生产实践数据条件下能达到最好的还原效果,在原有的实验数据上大大减少了煤耗量,每年可节约煤约4万吨。