为讲好科技故事搭建更好的平台

 2018年，中央全面深化改革委员会第五次会议审议通过《关于深化改革培育世界一流科技期刊的意见》，为科技期刊改革创新确立了行动纲领。2019年8月，中国科协、中宣部、教育部、科学技术部四部委联合发布了《关于深化改革培育世界一流科技期刊的意见》。     

软X射线宽带多层膜设计与实验

以周期膜理论为基础,改进了已有的设计方法,采用随机数的方法在１８￣２０ｎｍ波段设计了积分反射率最大的宽带多层膜,理论上得到了高于周期膜系８％的积发反射率。同时给出了整体的设计步骤,并用磁控溅方法对其进行了制备。     

在2008年地方基础研究工作研讨会上的讲话

各位来宾、女士们、先生们，上午好! 今年九月，科技部党组重新确定了工作分工，我开始分管基础研究和国际合作。这是我第一次参加地方基础研究工作会议，很高兴和大家一起围绕深入学习实践科学发展观，研讨推动区域创新体系建设，促进地方基础研究发展的有关工作。首先，我代表科技部向出席本次会议的各位代表表示热烈欢迎，向承办本次会议、为会议付出辛勤劳动的上海市科委表示衷心感谢。     

极紫外投影光刻技术

极紫外光刻最有可能成为下世纪初批量生产线工小于０．１μｍ集成电路的技术,倍受世界各国,尤其是美国和日本两个集成电路生产大国的密切关注,近年来得到了飞速发展。先后在极紫外光刻用无污染“碎片”激光等离子体光源,高反射率极紫外层膜制备技术,面形精度达亚纳米表面粗糙度均根值小于０．３ｎｍ的非球面超光滑表面加工与检测技术,无应力光学装校与调整,缺陷密度极小的反射式掩模,适于极紫外光曝光的表面成象光刻胶技术和     

软X射线投影光刻技术

本世纪八九十年代大规模集成电路芯片的制造技术取得了惊人的发展，由此带来的信息革命冲击着社会的每个角落。大规模集成电路芯片制造技术的关键是光刻技术，它的进步决定着集成电路芯片制造技术的发展。在过去的十几年间，每隔3～4年集成电路就更新换代一次，这表现为集成电路中     

为讲好科技故事搭建更好的平台

 2018年，中央全面深化改革委员会第五次会议审议通过《关于深化改革培育世界一流科技期刊的意见》，为科技期刊改革创新确立了行动纲领。2019年8月，中国科协、中宣部、教育部、科学技术部四部委联合发布了《关于深化改革培育世界一流科技期刊的意见》。     

加强管理 凝练目标 开创国家重点实验室工作新局面

今年是新中国成立60周年,也是国家重点实验室计划实施25周年。今天我们召开国家重点实验室工作会议,分析国家重点实验室面临的形势和机遇,探讨今后的发展思路,贯彻落实新修ST发布的各项管理规章制度,具有十分重要的意义。     

从孵化器大国向强国的重大拐点——科技部副部长曹健林在“纪念中国科技企业孵化器成立20周年工作座谈会”上的讲话

今年是我国科技企业孵化器成立二十周年。过去的二十年是我们从起步开始探索孵化器事业发展规律到促进孵化器事业超常发展、成为世界孵化器大国的二十年,是数万孵化器工作者锐意改革、谱写人生创新篇章的二十年,也是数十万创新创业者推动我国高新技术产业大发展的二十年。今天我们在这里隆重召开纪念座谈会,主要目的就是为了总结经验、认清面临机遇和挑战,振奋精神和斗志,以"十七大"精神为指导,做好走向孵化器强国思想准备。在此,我代表国家科学技术部向今天与会代表,并通过你们向我国广大孵化器事业工作者、特别是为孵化器事业的开创、艰难起步做出突出贡献的老一代工作者、及目前和曾在我们孵化器里进行创业的人表示最崇高敬意!党的"十七大"召开,为我国新时期现代化建设指明了方向,为各项事业发展带来了新机遇。借此机会,我结合"十七大"精神的学习,谈几点意见供大家参考……     

软X射线多层膜技术及其应用

介绍了软X射线多层膜的研究进展,讨论了软X射线多层膜的选材和制备过程中应该注意的问题。最后给出了软X射线多层膜的应用。     

聚焦X射线Bragg—Fresnel元件的研究

Ｂｒａｇｇ－Ｆｒｅｓｎｅｌ元件是近１０年来发展起来的新型反射式射元件，它的设计理论和制作 技术的研究是设计，制造元件并应用于Ｘ射光学系统中的重要环节。介绍了Ｂｒａｇｇ－Ｆｒｅｓｎｅｌ元件的量子设计理论，元件性能模拟计算结果，元件中衍射图形制作技术及元件中多层膜结构稳定性等方面的研究结果，并以１８ｎｍ工作波长一维聚焦Ｂｒａｇｇ－Ｆｒｅｓｎｅｌ元件样片作为实例给出检测结果。