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采用磁控溅射方法在取向为(110)的Pb(Mg_(1/3)Nb_(2/3))_(0.7)Ti_(0.3)O_3(PMN-PT)单晶基片上制备了Ni薄膜材料.利用X射线衍射仪、原子力显微镜、扫描电子显微镜及磁学测量系统对样品结构、形貌及磁性进行表征;利用交流电压调控磁光克尔效应的测试方法对Ni/PMN-PT异质结的逆磁电效应进行了研究.结果表明,Ni薄膜表面颗粒平整、致密,异质结表现出良好的铁磁性.电致克尔回线和电致应变曲线显示了相似的蝴蝶形状,说明了应力诱导机制在异质结的逆磁电耦合中起主要作用. 相似文献
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